[发明专利]一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口无效
| 申请号： | 201210325664.6 | 申请日： | 2012-09-06 |
| 公开（公告）号： | CN102789009A | 公开（公告）日： | 2012-11-21 |
| 发明（设计）人： | 何少伟;陈鹏杰;王明星;胡庆;徐向东;李伟 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11 |
| 代理公司： | 成都华典专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人： | 徐丰;杨保刚 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 具有 双面 反射 结构 红外 光学 窗口 | ||
1. 一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，包括红外光学窗口，其特征在于：所述红外光学窗口的入射面和出射面均刻蚀有抗反射结构。
2. 根据权利要求1所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：所述的红外光学窗口为硅、锗、硫化锌或硒化锌制成的红外光学窗口。
3. 根据权利要求1所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：所述的抗反射结构为凸起或凹陷结构。
4. 根据权利要求3所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：当抗反射结构为凸起结构时，为圆柱、圆锥、圆台或棱柱中的一种；当抗反射结构为凹陷结构时，为圆柱形凹槽、圆锥形凹槽、圆台形凹槽或棱柱形凹槽中的一种。
5. 根据权利要求1～4任一项所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：所述红外光学窗口为硅片，所述入射面的抗反射结构为呈二维矩阵排列的正四方柱，出射面的抗反射结构为呈二维矩阵排列的正四方柱凹槽。
6. 根据权利要求5所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：所述正四方柱的高度为1～2um，边长为1.2～3.2um，排列周期为2～4um。
7. 根据权利要求6所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：正四方柱高度为1.4um，边长为1.5um，排列周期为2.5um。
8. 根据权利要求5所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：所述正四方柱凹槽的深度为1～2um，边长为1.5～2.5um，排列周期为2～3um。
9. 根据权利要求7或8所述的一种具有双面抗反射结构的红外光学窗口，其特征在于：正四方柱凹槽深度为1.4um，边长为2um，排列周期为2.5um。
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