[发明专利]用于平衡梯度线圈中的径向力的系统和器件无效
| 申请号： | 201210327238.6 | 申请日： | 2012-06-29 |
| 公开（公告）号： | CN103033780A | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | T·K·基丹;T·J·黑文斯;江隆植 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G01R33/385 | 分类号： | G01R33/385 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 叶晓勇;刘春元 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 平衡 梯度 线圈 中的 径向 系统 器件 | ||
1.一种用于磁共振成像(MRI)系统的梯度线圈器件(304)，所述梯度线圈器件包括：
内部梯度线圈组件(324)；
外部梯度线圈组件(326)，绕所述内部梯度线圈组件放置并具有外表面；以及
有源力平衡线圈(352、354)，绕所述外部梯度线圈组件的所述外表面放置。
2.根据权利要求1所述的梯度线圈器件，其中所述有源力平衡线圈(352、354)配置为消除施加到所述内部梯度线圈组件(324)和所述外部梯度线圈组件(326)的径向力。
3.根据权利要求1所述的梯度线圈器件，其中所述有源力平衡线圈(352、354)由传导材料组成。
4.根据权利要求2所述的梯度线圈器件，其中所述有源力平衡线圈(352、354)在所述外部梯度线圈组件的所述外表面上的位置基于所述内部梯度线圈组件和所述外部梯度线圈组件上的力分布。
5.根据权利要求1所述的梯度线圈器件，其中所述外部梯度线圈组件(326)还包括第一端(344)和第二端(346)，以及所述有源力平衡线圈包括绕所述外部梯度线圈组件的所述第一端放置的第一有源力平衡线圈(352)和绕所述外部梯度线圈组件的所述第二端放置的第二有源力平衡线圈(354)。
6.根据权利要求5所述的梯度线圈器件，其中所述第一有源力平衡线圈(352)配置为消除施加到所述外部梯度线圈组件的所述第一端(344)的径向力。
7.根据权利要求5所述的梯度线圈器件，其中所述第二有源力平衡线圈(354)配置为消除施加到所述外部梯度线圈组件的所述第二端(346)的径向力。
8.一种用于磁共振成像(MRI)系统的梯度线圈器件(404)，所述梯度线圈器件包括：
内部梯度线圈组件(424)；
外部梯度线圈组件(426)，绕所述内部梯度线圈组件放置并具有外表面、第一端(444)和第二端(446)；
第一无源传导片(470)，绕所述外部梯度线圈组件的所述第一端(444)放置；以及
第二无源传导片(472)，绕所述外部梯度线圈组件的所述第二端(446)放置。
9.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第一无源传导片(470)配置为消除施加到所述外部梯度线圈组件的所述第一端(444)的径向力。
10.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第二无源传导片(472)配置为消除施加到所述外部梯度线圈组件的所述第二端(446)的径向力。
11.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第一无源传导片(470)安置在所述外部梯度线圈组件的所述第一端(444)上具有高泄漏场的位置处。
12.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第二无源传导片(472)安置在所述外部梯度线圈组件的所述第二端(446)上具有高泄漏场的位置处。
13.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第一无源传导片(470)和所述第二无源传导片(472)由铜组成。
14.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第一无源传导片(470)的位置基于所述外部梯度线圈组件的所述第一端(444)上的力分布。
15.根据权利要求8所述的梯度线圈器件，其中所述第二无源传导片(472)的位置基于所述外部梯度线圈组件的所述第二端(446)上的力分布。
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