[发明专利]阵列基板、阵列基板的制造方法及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示领域，特别涉及一种阵列基板、阵列基板的制造方法及显示装置。

背景技术

液晶显示器包括以矩阵形式设计的像素单元，以及驱动这些像素单元的驱动电路，通过液晶盒内电场的变化实现液晶分子的偏转，来达到显示效果。

现有液晶显示器件大多数采用传统的黑矩阵制造技术，即为了避免漏光问题，在彩膜基板上制作黑矩阵，并分别将红色色阻R、绿色色阻G以及蓝色色阻B以交叠（Over Lap）的形式与黑矩阵连接。这种结构会不可避免的带来角段差问题，这样严重影响了显示画面的品质。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种阵列基板、阵列基板的制造方法及显示装置，以提高显示画面的品质。

为解决上述技术问题，本发明提供技术方案如下：

一种阵列基板，所述阵列基板的栅绝缘层采用黑色绝缘材料，且所述栅绝缘层具有暴露出像素区域的开口。

所述阵列基板包括：

基板；

形成在基板上的栅电极和栅线；

形成在形成有所述栅电极和栅线的基板上的所述栅绝缘层；

形成在所述栅绝缘层上的半导体层；

形成在所述半导体层上的数据线、源电极和漏电极；

形成在形成有所述数据线、源电极和漏电极的基板上的钝化层，所述钝化层上形成有过孔；

形成在钝化层上的像素电极，所述像素电极通过所述过孔与所述漏电极连接。

上述的阵列基板，其中，还包括：

形成在所述源电极、漏电极与半导体层之间的欧姆接触层。

上述的阵列基板，其中：所述黑色绝缘材料为有机材料。

一种阵列基板的制造方法，所述制造方法采用黑色绝缘材料形成所述阵列基板的栅绝缘层，并在所述栅绝缘层中形成暴露出像素区域的开口。

所述制造方法包括：

在基板上形成栅电极和栅线；

在形成有所述栅电极和栅线的基板上形成所述栅绝缘层；

在所述栅绝缘层上形成半导体层、数据线、源电极和漏电极；

在形成有所述半导体层、数据线、源电极和漏电极的基板上形成钝化层，并在所述钝化层上形成过孔；

在所述钝化层上形成像素电极，所述像素电极通过所述过孔与所述漏电极连接。

上述的制造方法，还包括：

在所述源电极。漏电极与半导体层之间形成欧姆接触层。

上述的制造方法，其中：所述黑色绝缘材料为有机材料。

一种显示装置，包括上述的阵列基板。

根据本发明的上述技术方案，利用黑色绝缘材料来形成阵列基板的栅绝缘层，且在所述栅绝缘层形成暴露出像素区域的开口，这样，栅绝缘层就同时起到了黑矩阵的作用，能够避免现有显示装置制造过程中彩膜基板出现的角段差问题，从而提高了显示画面的品质。另外，由于避免了角段差，则又可省略彩膜基板平坦层的涂布，从而能够降低显示装置的制造成本。

附图说明

图1为本发明实施例的阵列基板的截面示意图；

图2为本发明实施例的阵列基板中栅绝缘层的平面示意图；

图3～图6为本发明实施例的阵列基板的制造过程示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图及具体实施例对本发明进行详细描述。

为了避免现有显示装置制造过程中彩膜基板出现的角段差问题，本发明实施例提供一种显示装置，所述显示装置包括阵列基板、彩膜基板以及夹设在所述阵列基板和所述彩膜基板之间的液晶层。其中，所述彩膜基板中不包括黑矩阵；所述阵列基板的栅绝缘层采用黑色绝缘材料，且所述栅绝缘层具有暴露出像素区域的开口，这样，栅绝缘层就同时起到了黑矩阵的作用。具体地，所述显示装置可以是液晶面板、液晶电视、手机、液晶显示器等。

图1为本发明实施例的阵列基板的截面示意图。参照图1，所述阵列基板可以包括：

基板1；

形成在基板1上的栅电极2和栅线（图未示）；

形成在形成有所述栅电极2和栅线的基板1上的所述栅绝缘层3，栅绝缘层3采用黑色绝缘材料，且所述栅绝缘层3具有暴露出像素区域的开口；

形成在所述栅绝缘层3上的半导体层4；

形成在所述半导体层4上的数据线（图未示）、源电极6和漏电极7；

形成在形成有所述数据线、源电极6和漏电极7的基板1上的钝化层8，所述钝化层上形成有过孔9；