[发明专利]光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法

权利要求书

1.一种光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法，包括以下步骤：

(1)初始面形数据预处理：首先取用一试验工件，测量该试验工件的初始面形数据，然后对初始面形数据进行滤波处理，滤除其中的低频误差成分，得到滤波后初始面形数据；

(2)最终面形数据预处理：采用待评价其光顺能力的抛光盘对上述试验工件进行光顺，光顺后测量该试验工件的最终面形数据，然后对最终面形数据进行滤波处理，滤除其中的低频误差成分，得到滤波后最终面形数据；

(3)获取滤波后差异面形数据：将上述步骤(1)中获得的滤波后初始面形数据与上述步骤(2)中获得的滤波后最终面形数据作差，得到滤波后差异面形数据；

(4)相关系数获取：从上述的滤波后初始面形数据和滤波后差异面形数据中选择与所述抛光盘的抛光面大小一致的某一区域的特定面形数据，并计算该特定面形数据的相关系数；

(5)相关系数判定：如果得到的相关系数在给定值以上，则说明上述的某一区域中有光顺行为发生，因而进入下述的步骤(6)；如果得到的相关系数小于给定值，则该区域中的特定面形数据弃之不用，然后返回步骤(4)在另一未知区域中重新进行步骤(4)后的工艺操作；

(6)计算光顺系数：将从上述某一区域中获取得到的滤波后初始面形数据、滤波后最终面形数据及滤波后差异面形数据代入光顺参数化模型，并计算该区域中的光顺系数SF₁；

(7)循环操作：重新返回至步骤(4)在另一未知区域中重新进行步骤(4)～步骤(6)的工艺操作，直至选择的区域遍历整个试验工件的光学表面，并最终计算得到一系列光顺系数SF₂、……、SF_n，其中n为大于或等于2的整数；

(8)绘制光顺直线：将上述步骤中得到的各光顺系数SF₁、……、SF_n及对应于工件表面特定区域的初始面形误差值RMS₁、……、RMS_n进行数据拟合，绘制得到所述抛光盘的光顺效率直线，根据该光顺效率直线即可评价所述抛光盘的光顺能力。

2.根据权利要求1所述的光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法，其特征在于：所述步骤(1)和步骤(2)的滤波处理过程中，滤波的截止频率设定为所述抛光盘直径的1/2。

3.根据权利要求1或2所述的光学加工用抛光盘的光顺能力评价方法，其特征在于，所述光顺参数化模型为：

SF≡RMSini-RMSfinnomimal_removal_depth;]]>

其中，SF即光顺系数，RMS_ini表示滤波后初始面形数据的均方根值，RMS_fin是滤波后最终面形数据的均方根值，nominal_removal_depth是加工过程中的材料去除量。