[发明专利]一种α-氰基-4-羟基肉桂酸修饰含硅基质的合成方法无效

专利信息
申请号: 201210333078.6 申请日: 2012-09-11
公开(公告)号: CN103663456A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 周焕英;高志贤;苏璇;刘飞;刘忠文;张亦红;陈风春;刘芳 申请(专利权)人: 中国人民解放军军事医学科学院卫生学环境医学研究所
主分类号: C01B33/021 分类号: C01B33/021;B82Y30/00
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摘要:
搜索关键词: 一种 氰基 羟基 肉桂 修饰 基质 合成 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种修饰的纳米硅材料的合成方法,具体涉及一种α-氰基-4-羟基肉桂酸(CHCA)修饰的SBA-15纳米硅基质的合成方法。

背景技术

尽管常用的基质辅助激光解吸电离(MALDI)的基质如CHCA、2,5-二羟基苯甲酸、芥子酸等在生物大分子分析中取得了成功,但是由于离子化过程中基质本身也会电离,所以导致在低质量范围(通常<600Da)的强背景,在很大程度上影响了低分子量物质的分析,探索合成适合小分子目标物检测的新基质,对于进一步拓展MALDI-TOF MS的应用范围具有重要作用。

发明内容

本发明的目的是克服MALDI检测小分子目标物时常见基质背景干扰较大的不足,提供一种CHCA修饰的改性含硅基质的合成方法。

本发明的技术方案概述如下:

方案1

CHCA与3-氨丙基三乙氧基硅烷(3-APTES)首先反应形成一种离子液体,同时3-APTES发生水解作用,与SBA-15通过硅醇键结合形成大的离子复合体。

合成方案1包括如下步骤:

(1)CHCA用有机溶剂完全溶解,室温条件下氮气保护搅拌10-30min后,逐滴滴入等摩尔质量的3-APTES溶液,继续搅拌反应0.5-2h,最终形成CHCA与3-APTES的离子液体;

(2)每毫摩尔离子液体中加入0.5-2.0g SBA-15,搅拌使体系混合均匀后升温至60-70℃,回流反应12-24h;

(3)将反应完的体系离心,去上清,沉淀物用20-50mL有机溶剂振荡洗涤2-8次,于50-100℃真空干燥5-10h,即得产物。

方案2

SBA-15先与3-APTES结合形成氨基化的SBA-15,再与CHCA反应形成离子复合体。

合成方案2包括如下步骤:

(1)将SBA-15分散于甲苯中,按照每毫摩尔3-APTES与0.5-2.0g SBA-15的比例滴加3-APTES,搅拌均匀后升温至80℃,氮气保护回流反应15-20h;

(2)将反应完的体系进行抽滤,滤饼依次用20-40mL甲苯和异丙醇洗涤2-8次,溶剂抽干后再继续抽提10-30min,得到的固体产物于60-80℃真空干燥8-15h,即得氨基修饰的SBA-15;

(3)称取与3-APTES等摩尔质量的CHCA,用有机溶剂完全溶解,室温条件下氮气保护搅拌10-30min,然后加入干燥后的的氨基修饰的SBA-15,室温搅拌反应2-5h;

(4)将反应完的体系离心,去上清,沉淀物用20-50mL有机溶剂振荡洗涤2-8次,于50-100℃真空干燥5-10h,即得产物。

如上所述的SBA-15孔径为4-12nm,表面积≥700m2/g,孔容≥1cm3/g。

如上所述的有机溶剂为甲醇或乙醇。

附图说明

图1为方案1合成路线示意图。

图2为方案2合成路线示意图。

具体实施方式

实施方案1

(1)准确称取1.0mmol的CHCA于100ml的三口烧瓶中,加入30ml甲醇,室温条件下氮气保护搅拌15min后,逐滴滴加1.0mmol的3-APTES溶液,继续搅拌反应1h;

(2)加入0.5g SBA-15,搅拌使体系混合均匀后升温至60℃回流反应12h;

(3)将反应完的体系离心,去上清,沉淀物用40ml甲醇振荡洗涤6次,于60℃真空干燥6h,即得产物。

实施方案2

(1)称取0.5g干燥后的SBA-15于100ml三口烧瓶中,加入15ml甲苯,逐滴滴加1.0mmol的3-APTES,搅拌均匀后升温至80℃,氮气保护条件下回流反应15h;

(2)将反应完的体系抽滤,依次用40ml甲苯和异丙醇洗3次,抽提20min,将滤饼于80℃真空干燥10h,即得氨基修饰的SBA-15;

(3)称取1.0mmol CHCA于100ml三口烧瓶中,加入30ml甲醇,室温条件下氮气保护搅拌15min,加入干燥后的的氨基修饰的SBA-15,室温搅拌反应3h;

将反应完的体系离心,去上清,沉淀物用40ml甲醇振荡洗涤6次,60℃真空干燥6h,即得产物。

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