[发明专利]一种纳米水基清洗剂及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米水基清洗剂，其所含成分重量百分比（%）为：

皂化剂                     2.0~18.0%

表面活性剂                 5.0~30.0%

缓蚀剂                     0.05~0.5%

纳米消泡剂                 0.05~0.5%

水溶性纳米二氧化硅         0.2~1.0%

其余为去离子水，各成分重量之和为100%。

2.根据权利要求1所述的纳米水基清洗剂，其特征在于：所述的皂化剂为碳酸钠、碳酸氢钠、氢氧化钠、三聚磷酸钠、磷酸氢二钠、五水偏硅酸钠中的一种或几种。

3. 根据权利要求1所述的纳米水基清洗剂，其特征在于：所述的表面活性剂为聚乙二醇400、聚乙二醇600、辛基酚聚氧乙烯醚、乙氧基类氟碳表面活性剂、聚氧乙烯醚磷酸酯、十二烷基磺酸钠、十二烷基醚硫酸钠、单硬脂酸甘油酯中的一种或多种。

4. 根据权利要求1所述的纳米水基清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂为2-甲基咪唑、咪唑、三乙醇胺、巯基苯骈噻唑中的一种或几种。

5. 根据权利要求1所述的纳米水基清洗剂，其特征在于：所述的纳米消泡剂为纳米硅醚消泡剂、纳米增效聚醚有机硅消泡剂中的一种或几种。

6. 根据权利要求1所述的纳米水基清洗剂的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：（1）称取去离子水，倒入反应釜中；（2）加入2~18%的皂化剂，搅拌至完全溶解；（3）再依次加入5.0~30.0%的表面活性剂、0.05~0.5%的缓蚀剂、0.05~0.5%的纳米消泡剂和0.2~1.0%的水溶性纳米二氧化硅，搅拌至完全溶解，即得本发明纳米水基清洗剂。