[发明专利]高压结场效晶体管有效

专利信息
申请号: 201210334110.2 申请日: 2012-09-11
公开(公告)号: CN103681876A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 陈立凡;陈永初;龚正 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L29/808 分类号: H01L29/808;H01L29/06
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 高压 结场效 晶体管
【说明书】:

技术领域

发明是有关于一种结场效晶体管,且特别是有关于一种高压结场效晶体管。

背景技术

随着半导体技术的发展,一种结场效晶体管(Junction Field Effect Transistor,JFET)已广泛应用于各式电子产品中。

在结场效晶体管中,漏极与源极之间形成一通道。栅极位于通道的两侧。透过栅极的电压来控制空乏区的大小,以使通道产生夹止现象(pitchoff),进而控制通道的开关。

结场效晶体管可以用来作为恒流二极管或者定值电阻。或者,结场效晶体管也可在低频和高频中被用来调节信号电压。

由于高压半导体技术的发展,更发展出一种高压结场效晶体管。目前研究人员努力改善高压结场效晶体管的效能。

发明内容

本发明是有关于一种高压结场效晶体管,其利用P型顶层的设计,以避免漏电流从表面穿越,进而有效降低高压结场效晶体管的阈值电压(breakdown voltage)。

根据本发明的一方面,提出一种高压结场效晶体管(High Voltage Junction Field Effect Transistor,HV JFET)。高压结场效晶体管包括一衬底、一漏极、一源极及一P型顶层。漏极设置于衬底之上。源极设置于衬底之上。源极及漏极之间形成一通道。P型顶层设置于通道之上。

为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举各种实施例,并配合所附图式,作详细说明如下:

附图说明

图1绘示第一实施例的高压结场效晶体管(High Voltage Junction Field Effect Transistor,HV JFET)的俯视图。

图2绘示图1的高压结场效晶体管的N型阱及P型阱的示意图。

图3绘示图1的高压结场效晶体管沿截面线3-3’的剖面图。

图4绘示图1的高压结场效晶体管沿截面线4-4’的剖面图。

图5绘示图1的高压结场效晶体管沿截面线5-5’的剖面图。

图6绘示第二实施例的高压结场效晶体管的俯视图。

图7绘示第三实施例的高压结场效晶体管的俯视图。

【主要元件符号说明】

100、200、300:高压结场效晶体管

110P:衬底

120N、220N、320N:漏极

130N、230N、330N:源极

140P:P型顶层

150、250、350:通道

160N:N型阱

170P、270P、370P:P型阱

171、271、371:缺口

180P:栅极

190、290、390:飘移区

191:场氧化层

192N:N型调整层

193P:P型调整层

194:绝缘层

具体实施方式

以下是提出各种实施例进行详细说明,其利用P型顶层的设计,以避免发生漏电流,进而有效降低高压结场效晶体管(High Voltage Junction Field Effect Transistor,HV JFET)的阈值电压(breakdown voltage)。然而,实施例仅用以作为范例说明,并不会限缩本发明欲保护的范围。此外,实施例中的图式是省略部份元件,以清楚显示本发明的技术特点。

第一实施例

请参照图1,其绘示第一实施例的高压结场效晶体管100的俯视图。高压结场效晶体管100包括一衬底110P(绘示于图5)、一漏极120N、一源极130N及一P型顶层140P。漏极120N及源极130N设置于衬底110P之上。源极120N及漏极130N之间形成一通道150。P型顶层140P设置于通道150之上。在通道150关闭时,P型顶层140P可以避免漏电流从衬底110P的表面穿越。

请参照图1~图2,图2绘示图1的高压结场效晶体管100的N型阱160N及P型阱170P的示意图。高压结场效晶体管100更包括一N型阱160N、二P型阱170P及二栅极180P。从图2可以更清楚了解N型阱160N与P型阱170P的关系。P型阱170P及N型阱160N设置于衬底110P上。由于衬底110P位于N型阱160N及P型阱170P之下,故以虚线标示。在本实施例中,衬底110P及P型阱170P皆为P型,N型阱160N则为N型。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于旺宏电子股份有限公司,未经旺宏电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210334110.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top