[发明专利]一种用于CIGS基薄膜光伏电池的过渡层及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201210337801.8 申请日: 2012-09-12
公开(公告)号: CN102867860A 公开(公告)日: 2013-01-09
发明(设计)人: 李艺明;田宏波 申请(专利权)人: 厦门神科太阳能有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 代理人: 张松亭
地址: 361000 福建省厦门市*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 cigs 薄膜 电池 过渡 及其 制备 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及薄膜太阳能电池技术领域,特别是一种具有黄铜矿结构的铜铟镓硒(硫)薄膜电池的过渡层及其制备方法。

背景技术

随着全球气候变暖、生态环境恶化和常规能源的短缺,越来越多的国家开始大力发展太阳能利用技术。太阳能光伏发电是零排放的清洁能源,具有安全可靠、无噪音、无污染、资源取之不尽、建设周期短、使用寿命长等优势,因而备受关注。铜铟镓硒(CIGS)是一种直接带隙的P型半导体材料,其吸收系数高达105/cm,2um厚的铜铟镓硒薄膜就可吸收90%以上的太阳光。CIGS薄膜的带隙从1.04eV到1.67eV范围内连续可调,可实现与太阳光谱的最佳匹配。铜铟镓硒薄膜太阳电池作为新一代的薄膜电池具有成本低、性能稳定、抗辐射能力强、弱光也能发电等优点,其转换效率在薄膜太阳能电池中是最高的,可接近20%的转化率,因此日本、德国、美国等国家都投入巨资进行研究和产业化。

太阳能在环境上是清洁的并且从某种角度上已经成功,但是,在使其进入普通百姓的家庭之前,仍有许多问题有待解决。例如,单晶硅太阳能电池能够将光能转化为电能,然而,单晶硅材料是比较昂贵的。在使用薄膜技术制造太阳能电池时,也存在一些问题,如薄膜的可靠性较差,并且在传统的环境应用中不能长时间使用,薄膜难以彼此有效的结合在一起等。

铜铟镓硒薄膜太阳能电池基本采用如下结构,先在一基板上沉积钼电极层,接着在其上沉积铜铟镓硒光吸收层,接着沉积硫化镉缓冲层,接着沉积透明导电氧化物窗口层,接着是沉积金属栅状电极和减反射层。传统的结构会存在如下问题:1)若基板为钠钙玻璃时,在CIGS制备过程中,由于温度较高,基板中的钠物质会不受控的扩散通过钼电极层进入光吸收层中,这会影响光吸收层的结晶状态,从而影响电池的转化效率;2)存在钼电极层与基板之间的粘接不牢固的问题,容易使膜层剥落。

为了解决钠不受控的扩散进入光吸收层,可在玻璃基板表面沉积一层阻挡层,一般该阻挡层选用氧化硅、氮化硅等,虽然该阻挡层可一定程度上阻挡钠的扩散,但其要起到良好的阻挡效果则需要较厚的阻挡层,而且该阻挡层不能解决钼电极层与玻璃基板之间的粘接不牢问题。中国专利CN200880109995.8公开了一种防止钠不受控的扩散进入光吸收层的方法,即在钠钙玻璃基板上先沉积一层氮化硅膜层来阻挡钠的扩散,该方法需要沉积至少50nm以上厚度的氮化硅膜层才对钠的扩散有一定的阻挡作用。而沉积较厚的氮化硅膜层时,氮化硅膜层会产生较大的应力,使其与基板和膜层之间的粘接性能恶化。该公开专利中未解决钼电极层与基板之间的粘接牢固性的问题。

发明内容

本发明的主要目的在于解决现有技术中存在的问题:在CIGS制备过程中,由于温度较高,玻璃基板中的钠物质会不受控的扩散进入光吸收层,造成光吸收层的结晶状态不佳,从而导致电池的转化效率变低。

本发明的另一目的在于解决现有技术中存在的问题:金属钼电极层与玻璃基板之间的结合不够牢固的问题。

本发明为解决现有技术中存在的问题采用如下技术方案:所述的过渡层设于钠钙玻璃基板表面和钼层之间,过渡层由硅、锆和钛中的至少一种元素与钼组成的至少两种元素的氧化物、氮化物或氮氧化物组成。

所述的过渡层3a由一层或多层组成,其中多层的层数为2-10层,每层的厚度可以为1-50nm。

所述的过渡层3a厚度为3-150nm,优选厚度为3-60nm,更优选厚度为5-30nm,最优选厚度为6-20nm。

所述的过渡层3a中靠近钠钙玻璃基板一侧的p1含有10%~100%的硅、锆和钛中的两种或两种以上元素的氧化物、氮化物或氮氧化物,优选含有50%~100%的硅、锆和钛中的两种或两种以上元素的氧化物、氮化物或氮氧化物,更优选含有70%~100%的硅、锆和钛中的两种或两种以上元素的氧化物、氮化物或氮氧化物,最优选含有80%~100%的硅、锆和钛中的两种或两种以上元素的氧化物、氮化物或氮氧化物。

所述的过渡层3a中远离钠钙玻璃基板一侧的p2含有20%~100%的钼的氧化物、氮化物或氮氧化物,优选含有50%~100%的钼的氧化物、氮化物或氮氧化物,更有选含有70%~100%的钼的氧化物、氮化物或氮氧化物,最优选含有80%~100%的钼的氧化物、氮化物或氮氧化物。

所述的过渡层3a可采用溅射沉积、真空蒸镀沉积、溶胶-凝胶法涂覆沉积,优选采用磁控溅射沉积,沉积过渡层3a时需通入氩气和氧气,也可通入氮气。

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