[发明专利]一种拉曼光谱测试探针及其制作方法无效
| 申请号： | 201210338058.8 | 申请日： | 2012-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN103674924A | 公开（公告）日： | 2014-03-26 |
| 发明（设计）人： | 吴砺;凌吉武;赵振宇;林磊;卢秀爱;张杨;张新汉 | 申请（专利权）人： | 福州高意光学有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/65 | 分类号： | G01N21/65 |
| 代理公司： | 福建炼海律师事务所 35215 | 代理人： | 许育辉 |
| 地址： | 350001 福建省福州*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光谱 测试 探针 及其 制作方法 | ||
1.一种拉曼光谱测试探针，包括基片和阵列纳米金属立柱，其特征在于：所述基片测试表面为抛光面，阵列纳米金属立柱设于该抛光面上；所述阵列纳米金属立柱各立柱顶端为具有锥度的针尖结构。
2.如权利要求1所述一种拉曼光谱测试探针，其特征在于：所述抛光面在有效使用范围内的面形达到λ/100以上。
3.如权利要求1所述一种拉曼光谱测试探针，其特征在于：所述基片为多模光纤或光学玻璃。
4.如权利要求1所述一种拉曼光谱测试探针，其特征在于：所述阵列纳米金属立柱材料为金、银或者铜。
5.一种拉曼光谱测试探针的制作方法，其特征在于：包括如下步骤：1）基片抛光，对基片测试表面进行抛光处理，在有效区域内面形达到λ/100以上；2）镀金属膜，在基片的抛光面上镀金属膜，金属膜厚度在100nm~500nm；3）刻制掩膜层，在金属膜上涂上一层掩膜层，并对掩膜层进行光刻处理形成掩膜阵列立柱结构；4）腐蚀金属膜，对金属膜层进行腐蚀加工，形成与掩膜层对应的阵列纳米金属立柱，通过控制工艺参数，使阵列纳米金属立柱各立柱顶端形成具有锥度的针尖结构；5）去除掩膜层，将剩余的掩膜层洗除。
6.如权利要求5所述一种拉曼光谱测试探针的制作方法，其特征在于：步骤3）中所述掩膜阵列立柱占空比在0.3~0.7。
7.如权利要求5所述一种拉曼光谱测试探针的制作方法，其特征在于：步骤2）中金属膜厚度在100nm~200nm。
8.如权利要求5所述一种拉曼光谱测试探针的制作方法，其特征在于：所述金属膜的材料为金、银或铜。
9.如权利要求5所述一种拉曼光谱测试探针的制作方法，其特征在于：所述基片为多模光纤或光学玻璃。
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