[发明专利]含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物，其特征在于，具有以下通式：

其中，n为10~100之间的整数；

R₁为C₁~C₂₀的烷基或为如下结构单元：

R₂、R₃、R₄为H、C₁~C₂₀的烷基或C₁~C₂₀的烷氧基；

R₅、R₆为H或C₁~C₂₀的烷基。

2.一种含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供化合物A和化合物B，化合物A的结构式为：

其中，R₁为C₁~C₂₀的烷基或为如下结构单元：

R₂、R₃、R₄为H、C₁~C₂₀的烷基或C₁~C₂₀的烷氧基；

化合物B的结构式为：

其中，R₅、R₆为H或C₁~C₂₀的烷基；及

在惰性气体氛围中，按摩尔比1∶1~2:1将所述化合物A和所述化合物B溶于第一溶剂中，加入催化剂，于70℃~120℃下进行Stille偶合反应24~72小时，分离纯化后得到含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物，所述含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物的分子通式为：.

其中，n为10~100之间的整数。

3.根据权利要求2所述的含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物的制备方法，其特征在于，所述化合物A采用如下方法制备：

提供化合物C和化合物D，所述化合物C具有如下结构：

所述化合物D为R₁-NH₂，其中R₁为C₁~C₂₀的烷基或为如下结构单元：

其中，R₂、R₃、R₄为H、C₁~C₂₀的烷基或C₁~C₂₀的烷氧基；

在惰性气体的保护下，按摩尔比1∶10将所述化合物C和化合物D加入第二溶剂中，回流反应8~14小时，分离纯化得到所述化合物A。

4.根据权利要求2所述的含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物的制备方法，其特征在于，所述化合物B采用如下方法制备：

提供化合物E：

其中，R₅、R₆为H或C₁~C₂₀的烷基；

配制所述化合物E的四氢呋喃溶液，在-78℃下，将正丁基锂滴加到所述化合物E的四氢呋喃溶液中形成混合液，将所述混合液恢复至室温后搅拌0.5小时，然后冷却至-78℃，将三甲基氯化锡加入所述混合液中，恢复至室温后搅拌8~14小时，用水淬灭，分离纯化得到所述化合物B。

5.根据权利要求2所述的含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物的制备方法，其特征在于，所述第一溶剂选自四氢呋喃、乙二醇二甲醚、二氧六环、N,N-二甲基甲酰胺、苯和甲苯中的至少一种。

6.根据权利要求2所述的含苯并双噻二唑单元萘四羧酸二酰亚胺共聚物的制备方法，其特征在于，所述催化剂为有机钯或有机钯与有机膦配体的混合物，在所述有机钯与有机膦配体的混合物中，所述有机钯与所述有机膦配体的摩尔比为1:2~10。