[发明专利]减少杂散光的投影装置及方法有效
申请号: | 201210338793.9 | 申请日: | 2012-09-13 |
公开(公告)号: | CN103676426B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 陈惠萍;田政蔚 | 申请(专利权)人: | 扬明光学股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/14 | 分类号: | G03B21/14;G03B21/20;G03B21/00 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 | 代理人: | 李镇江 |
地址: | 中国台湾新*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 减少 散光 投影 装置 方法 | ||
1.一种投影装置,具有影像光束及暗态光,其特征在于包括:
镜头模组;
聚光元件;
数字微镜装置,提供所述影像光束而进入所述镜头模组;以及
遮光元件,设置在所述数字微镜装置及所述聚光元件之间,以阻挡所述暗态光。
2.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于还包括:
光源、多个彩色滤光片以及积分器,所述光源用于提供所述影像光束,且所述影像光束经由所述彩色滤光片后再以所述积分器均匀化而入射至所述数字微镜装置,所述数字微镜装置具有包含多个微镜的微镜阵列并接收所述影像光束而转动,使入射至每一微镜的所述影像光束切换成为所述暗态光。
3.如权利要求2所述的投影装置,其特征在于所述数字微镜装置还配置用于将所述影像光束切换成为平态光。
4.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于还包括另一遮光元件,其位于所述聚光元件与所述镜头模组之间。
5.如权利要求4所述的投影装置,其特征在于所述遮光元件与所述另一遮光元件均配置用于阻挡所述暗态光及所述平态光。
6.如权利要求5所述的投影装置,其特征在于所述遮光元件与所述另一遮光元件为不同形状。
7.如权利要求5所述的投影装置,其特征在于所述遮光元件与所述另一遮光元件为相同形状。
8.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于所述遮光元件与所述聚光元件一体成型。
9.如权利要求1所述的投影装置,其特征在于所述投影装置具有全内反射TIR架构、反向全内反射RTIR架构、反射镜式Mirror type架构及场镜field lens架构其中之一。
10.一种投影装置,具有影像光束及暗态光,其特征在于包括:
镜头模组;
聚光元件,会聚所述影像光束而进入所述镜头模组;以及
遮光元件,设置在所述镜头模组及所述聚光元件之间,以阻挡所述暗态光。
11.一种在投影装置中减少暗态光的投影方法,所述投影装置包括镜头模组、聚光元件以及数字微镜装置,其特征在于所述方法包括:
在所述聚光元件及所述数字微镜装置之间以及所述镜头模组及所述聚光元件之间两者其中之一,设置遮光元件,以阻挡所述暗态光。
12.如权利要求11所述的方法,其特征在于所述投影装置还包括平态光。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于所述暗态光与所述平态光构成杂散光。
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