[发明专利]一种悬空圆盘阵列微结构及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201210341405.2 申请日: 2012-09-17
公开(公告)号: CN102838078A 公开(公告)日: 2012-12-26
发明(设计)人: 葛海雄;陈延峰;袁长胜;卢明辉 申请(专利权)人: 无锡英普林纳米科技有限公司
主分类号: B81B1/00 分类号: B81B1/00;B81C99/00
代理公司: 南京知识律师事务所 32207 代理人: 李媛媛
地址: 214192 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 悬空 圆盘 阵列 微结构 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种悬空圆盘阵列微结构,其特征在于,该悬空圆盘阵列微结构由非密堆石英或玻璃纤维阵列和位于纤维阵列尖端的金属圆盘组成;石英或玻璃纤维阵列的直径2-200μm,周期为5-500μm,金属圆盘直径为2-200μm。

2.根据权利要求1所述的一种悬空圆盘阵列微结构,其特征是,所述金属圆盘为金、银、铜、铂或其它可湿化学生长的金属材料。

3.一种制备如权利要求1所述微结构的方法,其特征是,所述方法包括以下步骤:

(1)在非密堆石英或玻璃纤维阵列内填充聚合物;

(2)沿着垂直于纤维的方向切片,通过化学镀方法在纤维一端生长直径大于纤维直径的金属圆盘;

(3)去除部分聚合物使得金属圆盘悬空,即得悬空圆盘阵列微结构。

4.根据权利要求3所述的悬空圆盘阵列微结构的制备方法,其特征是,步骤(1)中所述的聚合物的材料为松香、聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯或其它可被有机溶剂溶解或加热后粘度小的聚合物。

5.根据权利要求3或4所述的悬空圆盘阵列微结构的制备方法,其特征是,步骤(3)中所述的部分聚合物的去除方法采用溶解或刻蚀。

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