[发明专利]电力控制方法、电力控制装置以及图像形成装置有效

专利信息
申请号: 201210341869.3 申请日: 2012-09-14
公开(公告)号: CN103019075A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 光义彦;夏目宗佑;丰泉辉彦;张光荣;林健一;松尾信宏 申请(专利权)人: 柯尼卡美能达商用科技株式会社
主分类号: G03G15/20 分类号: G03G15/20;G03G15/00
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 薛仑
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 电力 控制 方法 装置 以及 图像 形成
【说明书】:

技术领域

本发明涉及复印机、打印机、传真装置、以及它们的复合机等的利用了电子照片方式的图像形成装置。

背景技术

利用了电子照相方式的图像形成装置,通过加热融化在纸张上形成的未定影调色剂像从而使其定影,因此作为热源而具有加热器。在对加热器的电力供应中,为了抑制冲击电流导致的临时的电源电压的下降等,利用向上通过控制(through up-reglulation)以及向下通过控制(through down-reglulation)。向上通过控制是在加热器的通电初期随着时间的经过逐渐地增加供应电力的控制方式。此外,向下通过控制是在加热器的通电末期随着时间的经过逐渐地减少供应电力的控制方式。

作为向上通过控制以及向下通过控制等的电力控制方法,利用相位控制以及波数控制等的控制方法。图11是表示用于说明相位控制的电压波形的图,图12是表示用于说明波数控制的电压波形的图。

相位控制是将来自交流电源的交流电力从半周期内的任意的相位角开始到过零点为止对负载供应电力,并通过改变该任意的相位角从而使供应电力可变的控制方式。例如,对作为负载的加热器施加图11所示的波形的电压。在图11中,半周期为一个控制周期。如图11所示,一个控制周期的电压的供应量随着时间的经过而增大时,对加热器供应的电力也逐渐增加。

此外,波数控制是将交流电力的半周期作为一个单位,在每个半周期设为ON(导通)或者OFF(截止),从而使对于负载的供应电力可变的控制方式。例如,对作为负载的加热器施加图12所示的波形的电压。在图12中,4周期为一个控制周期。如图12所示,一个控制周期的电压供应量为50%。

以往开始,在控制电力上利用相位控制或者波数控制。此外,也利用将相位控制和波数控制组合的控制方法。例如在专利文献1中公开。但是,相位控制以及波数控制具有以下所示的问题点。相位控制在交流的半周期内将加热器设为导通或者截止,因此存在导通时产生的剧烈的交流变动导致发生高次谐波电流失真和开关噪声的问题。此外,波数控制能够抑制高次谐波电流失真和开关噪声,但与相位控制相比交流电源的电压变动可能会增大,因此存在容易发生闪变的问题。

此外,也有利用了升压斩波器(chopper)等的电力控制装置,但存在成本变高的问题。

因此,要求更优选的电力控制装置,也提出了几种方案。例如,在专利文献2中公开了一种电力控制装置,其具有通过交流电力驱动的两个加热器以及通过直流电力驱动的电机等的次级侧电气构件,仅对其中一个加热器供应电力而不对双方的加热器供应电力的情况下,对次级侧电气构件供应电力。

根据该电力控制装置,能够将从交流电源供应的电力分配给两个加热器的每一个和次级侧电气构件,能够改善功率因数,且能够有效利用电力。

[专利文献1](日本)特开2010-286649号公报

[专利文献2](日本)特开2010-186218号公报

但是,专利文献2公开的图像形成装置无法对两个加热器的每一个和次级侧电气构件重复供应电力,因此例如在对一个加热器供应电力的期间,无法对剩余的加热器以及次级侧电气构件供应电力。因此,对于各负载的电力的供应量的自由度低,存在难以对各负载均衡地供应电力的问题。

发明内容

本发明是鉴于上述情况的发明,其目的在于,对各负载提供理想的量的电力而不会使功率因数下降。

本发明的电力控制方法为用于对第1负载以及第2负载分别供应交流电力的电力控制方法,其特征在于,对所述第1负载供应每半个周期中的相位角0~相位角φ1的范围的交流电力,对所述第2负载供应每半个周期中的相位角φ2~相位角π的范围的交流电力,其中,φ1为大于0且π以下,φ2为0以上且小于π,并且φ1大于φ2。

此外,本发明的另一电力控制方法为用于对第1负载、第2负载以及第3负载分别供应交流电力的电力控制方法,其特征在于,对所述第1负载供应每半个周期中的相位角0~相位角φ1的范围的交流电力,对所述第2负载供应每半个周期中的相位角φ2~相位角π的范围的交流电力,对所述第3负载供应每半个周期中的相位角φ3~相位角φ4的范围的交流电力,其中,φ1为大于0且π以下,φ2为0以上且小于π,φ3为0以上且小于φ1,φ4为π以下且大于φ2。

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