[发明专利]光学基板有效
申请号: | 201210342252.3 | 申请日: | 2012-09-14 |
公开(公告)号: | CN103226211A | 公开(公告)日: | 2013-07-31 |
发明(设计)人: | 深谷浩生;岛村洋一;大久保拓朗;小高沙希;齐藤孝朗;小岛龙也 | 申请(专利权)人: | 株式会社拓普康 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;G02B1/10 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 韩明星 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光学 | ||
1.一种光学基板,其特征在于,具有色调调整及防反射膜和在所述色调调整及防反射膜上设置的用于降低指纹附着的防污层,防反射膜至少由九层构成。
2.一种光学基板,其特征在于,具有用于防裂的强化层、在所述强化层上设置的色调调整及防反射膜、在所述色调调整及防反射膜上设置的用于降低指纹附着的防污层,防反射膜至少由九层构成。
3.一种光学基板,其特征在于,具有用于防裂的强化层、在所述强化层上设置的防眩光层、在所述防眩光层上设置的色调调整及防反射膜、在所述色调调整及防反射膜上设置的用于降低指纹附着的防污层,防反射膜至少由九层构成。
4.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,防反射膜由Nb2O5、Ta2O5、TiO2、ZrO2的高折射率材料或者使用这些材料的混合材料和SiO2或者MgF2的低折射材料构成,将高折射率材料的折射率定义为nh,第折射率材料的折射率定义为nl,nh和nl的相邻的层的折射率差定义为△n时,满足下面条件(1)~(3):
(1)nh≥2.0
(2)nl≤1.60
(3)△n≥0.30。
5.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,防反射膜由九层构成,将九层的各个折射率从介质侧定义为n1、n2、n3、n4、n5、n6、n7、n8、n9,且将各层的光学膜厚从介质侧定义为d1、d2、d3、d4、d5、d6、d7、d8、d9时,满足下面条件:
(a)n2≦1.40
(b)n3=n5=n7=n9>n1=n4=n6=n8>n2
(c)0.0225λ0≦d1≦0.0525λ0
(d)0.1453λ0≦d2≦0.3389λ0
(e)0.0733λ0≦d3≦0.1710λ0
(f)0.0307λ0≦d4≦0.0716λ0
(g)0.2096λ0≦d5≦0.4892λ0
(h)0.0315λ0≦d6≦0.0735λ0
(i)0.0810λ0≦d7≦0.1889λ0
(j)0.0798λ0≦d8≦0.1863λ0
(k)0.0258λ0≦d9≦0.0602λ0。
6.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,最外层以及第二层为包含有由氧化硅和氟化镁构成的组中所选择的至少一个种类的层。
7.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,防反射膜为适用于波长范围为390~800nm的可视光线的防反射膜。
8.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,防反射膜在波长范围为390~800nm的情况下,光谱反射率为1.0%以下,且在波长范围为400~780nm的情况下,光谱反射率为0.5%以下。
9.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,所使用的防反射膜为关于反射色使用D65白色光源时,对于国际色差测算公式坐标,a*及b*的值分别为-5<a*<5,-5<b*<5。
10.如权利要求1至3中任意一项所述的光学基板,其特征在于,防污层具有不沾水不沾油性膜。
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