[发明专利]一种激光脉冲电镀系统有效
申请号: | 201210342253.8 | 申请日: | 2012-09-14 |
公开(公告)号: | CN102817051A | 公开(公告)日: | 2012-12-12 |
发明(设计)人: | 杨盈莹;林学春;于海娟 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | C25D5/00 | 分类号: | C25D5/00;C25D5/18 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 激光 脉冲 电镀 系统 | ||
1.一种激光脉冲电镀系统,其特征在于,包括:
脉冲激光器(1),用于提供激光电镀用的激光脉冲;
脉冲发生控制器(2),用于控制脉冲激光器(1)发出的激光脉冲与脉冲电镀电源(13)发出的电脉冲的发生时间,实现激光脉冲与电脉冲之间互相匹配或有一定的时间延迟;
衰减器(3),用于控制脉冲激光器(1)的功率,防止损伤电镀材料;
电子快门(4),用于控制激光脉冲的关断;
扩束器(5),用于扩展激光束的直径,减小激光束的发散角;
反射镜(6),用于改变激光束的传播方向,将激光束传播至待处理样品基底(10);
CCD实时观察系统(7),用于实时观测处理样品基底(10)的电镀过程;
光学振镜(8),用于控制激光束的扫描速度;
聚焦物镜(9),用于将激光束聚焦在待处理样品基底(10)表面;
电解池(11),用于放置电解液;
三维移动台(12),用于移动在电解池(11)中待处理样品基底(10)的位置;
脉冲电镀电源(13),用于提供电解池(11)正负极电压的电压。
2.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述脉冲激光器(1)的波长范围从100nm-2μm,重复频率从1Hz-100MHz,脉冲的宽度从毫秒到飞秒。
3.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述脉冲发生控制器(2)采用电调制方式分别给脉冲激光器(1)和脉冲电镀电源(13)触发信号,控制脉冲的重复频率在1Hz-100MHz,时间延迟为皮秒到秒。
4.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,通过衰减器(3)或调整激光输出功率将焦点处的峰值功率控制在105W/cm2到109W/cm2,使激光能量小于材料的损伤阈值和电解液的汽化阈值。
5.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述电子快门(4)控制激光脉冲通断及照射时间1us到100s,进行激光脉冲的直写电镀。
6.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述光学振镜(8)控制激光扫描速度从100nm/s到10cm/s,使激光光束在10nm-10cm的范围内移动。
7.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述三维移动台(12)的移动范围在10nm-10cm。
8.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述脉冲电镀电源(13)的工作频率为1KHz-1MHz,工作电压从0.1V-1kV,电流密度1uA/cm2-100A/cm2。
9.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,所述电解池(11)中放置的电解液包含电镀处理的金属离子溶液。
10.根据权利要求1所述的激光脉冲电镀系统,其特征在于,在交换所述电解池的正负极后,该系统亦适用于脉冲激光刻蚀。
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