[发明专利]再生模板的方法和再生设备

权利要求书

1.一种再生模板的再生方法，该模板包含：

具有凹凸图案的转移表面，和

包含无机官能团和有机官能团的脱模层，这两种官能团都键合到该转移表面上，

该方法包含：

通过对脱模层中所包含的有机官能团进行氧化和分解来除去有机官能团；

除去无机官能团；和

通过将硅烷偶联剂与转移表面偶联来形成脱模层。

2.权利要求1的方法，其中无机官能团的除去是按如下进行的：用含有选自氨、胆碱、氢氧化钠和氟化氢中的至少一种的化学溶液进行处理。

3.权利要求1的方法，其中在无机官能团的除去中，进行0.15n m或者更大的蚀刻。

4.权利要求1的方法，其中该氧化和分解是通过用紫外线照射、等离子体照射或者臭氧处理来进行的。

5.权利要求1的方法，其中该脱模层包含含有硅烷偶联剂的硅原子的无机官能团，该硅原子是经由氧原子与转移表面共价键合的，并且有机官能团与该硅原子相邻。

6.权利要求1的方法，其中该无机官能团包含烷基或者氟基团。

7.一种用于再生模板的再生设备，该模板包含：

具有凹凸图案的转移表面，和

包含无机官能团和有机官能团的脱模层，这两种官能团都键合到该转移表面上，

该设备包含：

第一加工区，用于通过氧化和分解来除去脱模层的有机官能团；

第二加工区，用于除去脱模层的无机官能团；和

第三加工区，用于通过将硅烷偶联剂与转移表面偶联来形成脱模层。