[发明专利]普那霉素ⅠA晶体在审
申请号: | 201210347841.0 | 申请日: | 2012-09-19 |
公开(公告)号: | CN103665105A | 公开(公告)日: | 2014-03-26 |
发明(设计)人: | 毛文华;吴亚铭;黄志明;周苗 | 申请(专利权)人: | 浙江医药股份有限公司新昌制药厂 |
主分类号: | C07K7/06 | 分类号: | C07K7/06;A61K38/08;A61P31/04 |
代理公司: | 北京乾诚五洲知识产权代理有限责任公司 11042 | 代理人: | 付晓青;王厚莉 |
地址: | 312500*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 霉素 晶体 | ||
1.一种如式I所示的普那霉素IA晶体,
其中,其具有与X射线粉末晶体衍射图谱图1基本相同的特征。
2.如权利要求1所述的普那霉素IA晶体,其中,所述晶体在X射线衍射图谱中的下述2θ角有特征峰:3.9、9.0、14.5、14.9、16.0、16.4、16.8、18.3、20.0、24.2,并且所述晶体的熔点为276℃~285℃。
3.一种药物组合物,包括治疗有效量的如权利要求1或2所述的普那霉素IA晶体及其药学上可接受的载体。
4.如权利要求3所述的药物组合物,其中,所述药物组合物还包括选自由普那霉素IIA、普那霉素IB、普那霉素IC、普那霉素IIB、普那霉素IIC组成的组中的至少一种。
5.如权利要求3或4所述的药物组合物,其中,所述药物组合物为片剂、胶囊剂、颗粒剂或混悬剂。
6.一种如权利要求1或2所述的普那霉素IA的晶体在制备用于治疗抗耐药菌感染的药物中的应用。
7.一种制备如权利要求1或2所述的普那霉素IA晶体的方法,所述方法包括如下步骤:
步骤a):将普那霉素IA溶于C1~C4的一元醇或者C3~C6的酮的溶剂中,在0℃~70℃温度下搅拌溶解,过滤,得到滤液;
步骤b):在步骤a)所得的滤液中加0.5~10倍滤液体积的纯化水,或者将所得的溶液在常压或减压下加热至溶剂的沸点,蒸出溶剂至剩余体积为加入纯化水体积的0.5~2倍,得到含有结晶的悬浊液;
步骤c):将步骤a)所得的滤液或步骤b)所得的悬浊液冷却到-30℃~30℃,析出结晶,过滤得到普那霉素IA晶体。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,所述C1~C4的一元醇为甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、异丁醇。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,所述C3~C6的酮为丙酮、丁酮或环己酮。
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