[发明专利]一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置及方法有效
申请号: | 201210350149.3 | 申请日: | 2012-09-18 |
公开(公告)号: | CN102890430A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 吴俊 | 申请(专利权)人: | 天津芯硕精密机械有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 300457 天津*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 曝光 调整 功率 均匀 装置 方法 | ||
1.一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置,其特征在于,主要包括有三个模块,分别为照明模块、投影曝光模块、功率探测模块,照明模块包括有曝光光源、光学透镜组和一个反光镜, 投影曝光模块包括有可编程的图形发生器和投影镜头,功率探测模块包括有功率探头和功率显示器,反光镜倾斜设置在曝光光源的前方光路上,反光镜的反射光路上依次设置光学透镜组、图形发生器,图形发生器的下方依次设置投影镜头、功率探头,功率探头的信号输出端与功率显示器连接。
2.根据权利要求书1所述的一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置,其特征在于,所述的曝光光源为激光器或者汞灯。
3.根据权利要求书1所述的一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置,其特征在于, 所述的反光镜是可以平移和俯仰可调的。
4.根据权利要求书1所述的一种直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置,其特征在于,所述的可编程的图形发生器为空间微反射镜阵列。
5.基于权利要求书1所述的直写曝光机调整曝光面功率均匀性的装置的方法,其特征在于,包含以下步骤:
(1) 打开曝光光源;
(2) 把可编程的图形发生器分为等面积的axb个区域,分别在可编程的图形发生器的每个小区域投影白图,白图即为测试图形;
(3) 分别记录每个测试图形对应的功率值W1,W2,W3,……Wn,其中,功率的最大值记为Wmax,功率的最大值记为Wmin,曝光面的功率均匀性U即为(Wmax-Wmin)/(Wmax+Wmin);
(4) 如果曝光面的功率均匀性U不符合指标,则平移或者俯仰调整反光镜;
(5) 重复步骤(1)—(4),直到曝光面的功率均匀性U符合指标。
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