[发明专利]金属有机物化学气相沉积设备的载片盘

权利要求书

1.一种金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，载片盘（23）包括载片盘上表面（25）和载片盘下表面（29），载片盘上表面（25）上设置浅槽放置衬底（24），其特征在于在多区加热系统的相邻加热片耦合对应的载片盘下表面（29）位置附近处圆周方向设置至少一条凸槽或凹槽（31）。

2.根据权利要求1所述的金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，其特征在于所述载片盘下表面（29）位置附近处圆周方向设置的凸槽或凹槽（31）为矩形或者曲面形的。

3.根据权利要求1或2所述的金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，其特征在于所述载片盘下表面（29）位置附近处圆周方向混合设置矩形和曲面形的凸槽或凹槽。

4.一种金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，载片盘（23）包括载片盘上表面（25）和载片盘下表面（29），载片盘上表面（25）上设置浅槽放置衬底（24），其特征在于在多区加热系统的加热片正上方对应的载片盘上表面（25）位置附近处圆周方向设置至少一条凹槽（33）。

5.根据权利要求4所述的金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，其特征在于所述载片盘上表面（25）位置附近处圆周方向设置的凹槽（33）为矩形或者曲面形的。

6.根据权利要求4或5所述的金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，其特征在于所述载片盘上表面（25）位置附近处圆周方向混合设置矩形和曲面形的凹槽。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的金属有机物化学气相沉积设备的载片盘，其特征在于所述的载片盘（23）由钼、钨、钽、铼或者是钼、钨、钽、铼中的其中任意两种以上元素合金材料制成，或者由石墨和碳硅化合物材料制成。