[发明专利]触控电极装置及其形成方法无效

专利信息
申请号: 201210356457.7 申请日: 2012-09-21
公开(公告)号: CN103631428A 公开(公告)日: 2014-03-12
发明(设计)人: 马冠炎 申请(专利权)人: 恒颢科技股份有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 代理人: 寿宁;张华辉
地址: 中国台湾*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电极 装置 及其 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种触控电极装置,其特征在于其包含:

基板;

多个绝缘底座,设于该基板上,每一个该绝缘底座具有底切剖面,使得该绝缘底座的顶部面积大于底部面积;

多条第一电极列,分别设于上述绝缘底座上;及

多条第二电极列,设于该基板上。

2.根据权利要求1所述的触控电极装置,其特征在于该第一电极列及该第二电极列包含氧化铟锡。

3.根据权利要求1所述的触控电极装置,其特征在于每一条该第一电极列呈第一方向排列且包含多个实体串接的第一电极;且每一条该第二电极列呈第二方向排列且包含多个第二电极。

4.根据权利要求3所述的触控电极装置,其特征在于还包含多个导电件设于该基板与该第二电极列之间,用以电性串接每一条该第二电极列的上述第二电极。

5.根据权利要求3所述的触控电极装置,其特征在于还包含多个导电件设于该第二电极列上,用以电性串接每一条该第二电极列的上述第二电极,并借由相应绝缘桥接元件与该第一电极列电性绝缘。

6.根据权利要求3所述的触控电极装置,其特征在于沿该第二方向相邻的上述第一电极的间距,以及沿该第一方向相邻的上述第二电极的间距为20~50微米。

7.根据权利要求1所述的触控电极装置,其特征在于该绝缘层包含光刻胶材料。

8.根据权利要求1所述的触控电极装置,其特征在于该绝缘底座的光折射率相同于该第一电极的光折射率。

9.根据权利要求1所述的触控电极装置,其特征在于该绝缘底座的底切角度大于95°。

10.根据权利要求1所述的触控电极装置,其特征在于该绝缘底座的顶部高于该第二电极的上表面至少20微米。

11.一种形成触控电极装置的方法,该触控电极装置包含多条第一电极列及多条第二电极列,其特征在于该方法包含以下步骤:

形成绝缘层于基板上;

图案化该绝缘层以形成多个绝缘底座,上述绝缘底座具有上述第一电极列的图案,每一个该绝缘底座具有底切剖面,使得该绝缘底座的顶部面积大于底部面积;及

形成电极层于该基板及上述绝缘底座上,因而分别形成上述第一电极列于上述绝缘底座上,且形成上述第二电极列于该基板上。

12.根据权利要求11所述形成触控电极装置的方法,其特征在于该第一电极列及该第二电极列包含氧化铟锡。

13.根据权利要求11所述形成触控电极装置的方法,其特征在于每一条该第一电极列呈第一方向排列且包含多个实体串接的第一电极;且每一条该第二电极列呈第二方向排列且包含多个第二电极。

14.根据权利要求13所述形成触控电极装置的方法,其特征在于于形成该绝缘层之前,还包含形成多个导电件于该基板上,用以电性串接每一条该第二电极列的上述第二电极。

15.根据权利要求13所述形成触控电极装置的方法,其特征在于于形成该电极层之后,还包含依序形成多个绝缘桥接元件及多个导电件,其中上述导电件形成于该第二电极列上,用以电性串接每一条该第二电极列的上述第二电极,并借由相应上述绝缘桥接元件与该第一电极列电性绝缘。

16.根据权利要求15所述形成触控电极装置的方法,其特征在于于形成该电极层之后,还包含沿该第二方向相邻的上述第一电极之间,以及沿该第一方向相邻的上述第二电极之间,使用激光形成20~50微米的间距。

17.根据权利要求11所述形成触控电极装置的方法,其特征在于该绝缘层包含光刻胶材料。

18.根据权利要求11所述形成触控电极装置的方法,其特征在于该绝缘底座的光折射率相同于该第一电极的光折射率。

19.根据权利要求11所述形成触控电极装置的方法,其特征在于该绝缘底座的底切角度大于95°。

20.根据权利要求11所述形成触控电极装置的方法,其特征在于该电极层是以溅镀制造工艺形成。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恒颢科技股份有限公司,未经恒颢科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210356457.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top