[发明专利]水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材及成膜方法以及水蒸气阻挡膜无效

专利信息
申请号: 201210359418.2 申请日: 2012-09-24
公开(公告)号: CN103173717A 公开(公告)日: 2013-06-26
发明(设计)人: 吉田勇气;樱井英章 申请(专利权)人: 三菱综合材料株式会社
主分类号: C23C14/08 分类号: C23C14/08;C23C14/24;B32B9/04
代理公司: 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 代理人: 康泉;王珍仙
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 水蒸气 阻挡 形成 用蒸镀材 方法 以及
【权利要求书】:

1.一种水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,由纯度为98%以上且小于100%的第1氧化物和纯度为98%以上且小于100%的第2氧化物构成,其中,

所述第1氧化物为WO3,所述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方,

将所述第1氧化物和所述第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时,组成比为0.05≤X摩尔/(X摩尔+Y摩尔)≤0.95。

2.如权利要求1所述的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,其中,

所述蒸镀材由经过造粒处理的平均粒径为1~10mm的颗粒体构成。

3.如权利要求1所述的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,其中,

所述蒸镀材由经过冲压成型的直径5~30mm、厚度1~20mm的粒料构成。

4.一种水蒸气阻挡膜的成膜方法,使用权利要求1~3中任一项所述的蒸镀材,通过电阻加热法、电子束蒸镀法或反应性等离子体蒸镀法进行成膜。

5.一种水蒸气阻挡膜,使用权利要求1~3中任一项所述的蒸镀材并通过真空成膜法形成,且b*值的绝对值小于3,并且水蒸气透过率为0.1g/m2·天以上且小于1.0g/m2·天。

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