[发明专利]水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材及成膜方法以及水蒸气阻挡膜无效
申请号: | 201210359418.2 | 申请日: | 2012-09-24 |
公开(公告)号: | CN103173717A | 公开(公告)日: | 2013-06-26 |
发明(设计)人: | 吉田勇气;樱井英章 | 申请(专利权)人: | 三菱综合材料株式会社 |
主分类号: | C23C14/08 | 分类号: | C23C14/08;C23C14/24;B32B9/04 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 康泉;王珍仙 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 水蒸气 阻挡 形成 用蒸镀材 方法 以及 | ||
1.一种水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,由纯度为98%以上且小于100%的第1氧化物和纯度为98%以上且小于100%的第2氧化物构成,其中,
所述第1氧化物为WO3,所述第2氧化物为ZnO或SiO中的至少一方,
将所述第1氧化物和所述第2氧化物的含有摩尔量分别设为X摩尔、Y摩尔时,组成比为0.05≤X摩尔/(X摩尔+Y摩尔)≤0.95。
2.如权利要求1所述的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,其中,
所述蒸镀材由经过造粒处理的平均粒径为1~10mm的颗粒体构成。
3.如权利要求1所述的水蒸气阻挡膜形成用蒸镀材,其中,
所述蒸镀材由经过冲压成型的直径5~30mm、厚度1~20mm的粒料构成。
4.一种水蒸气阻挡膜的成膜方法,使用权利要求1~3中任一项所述的蒸镀材,通过电阻加热法、电子束蒸镀法或反应性等离子体蒸镀法进行成膜。
5.一种水蒸气阻挡膜,使用权利要求1~3中任一项所述的蒸镀材并通过真空成膜法形成,且b*值的绝对值小于3,并且水蒸气透过率为0.1g/m2·天以上且小于1.0g/m2·天。
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