[发明专利]一种低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水及其制备方法

权利要求书

1.一种低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

（1）提供可以产生氢离子的A单元；

（2）提供含有有效氯或者可以产生有效氯的B单元；

（3）将所述A单元与所述B单元混合，得到酸性强氧化性溶液，所述酸性强氧化性溶液的pH值在2-7间，其氧化还原电位不低于700mV，其有效氯含量不低于3mg/L，其每一种腐蚀性金属离子的含量不高于0.02mol/L，所述腐蚀性金属离子能与单质铝发生置换反应。

2.如权利要求1所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述腐蚀性金属离子为Ti、Zr、V、Mn、Sm、Nb、Zn、Cr、Ga、Fe、Cd、In、Tl、Co、Ni、Mo、Sn、Tm、Pb、Cu、Tc、Po、Hg、Ag、Rh、Pd、Pt或Au的离子。

3.如权利要求1所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所有腐蚀性金属离子的含量之和不高于0.02mol/L。

4.如权利要求1或3所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，在步骤（1）中还包括：对所述A单元进行预处理。

5.如权利要求1或3所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，在步骤（2）中还包括：对所述B单元进行预处理。

6.如权利要求1或3所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，在步骤（3）中还包括：对所述A单元与所述B单元混合后的混合液进行后处理。

7.如权利要求4所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，对所述A单元进行预处理的方法可选自加入腐蚀性金属离子失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种，以去除部分腐蚀性金属离子。

8.如权利要求5所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，对所述B单元进行预处理的方法可选自加入腐蚀性金属离子失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种，以去除部分腐蚀性金属离子。

9.如权利要求6所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述后处理的方法可选自加入腐蚀性金属离子失活剂、膜分离法、电化学法、层析法、吸附法或离子交换法中的一种或者几种，以去除部分腐蚀性金属离子。

10.如权利要求1所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述A单元为酸性。

11.如权利要求1所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述B单元含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。

12.如权利要求1所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水的制备方法，其特征在于，所述B单元为中性或者碱性。

13.一种低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水，其特征在于，包括使用前独立分装的A单元和B单元，所述A单元为可以产生氢离子的制剂；所述B单元为含有有效氯或者可以产生有效氯的制剂，所述A单元与所述B单元混合后得到酸性强氧化性溶液，所述酸性强氧化性溶液的pH值在2-7间，其氧化还原电位不低于700mV，其有效氯含量不低于3mg/L，其每一种腐蚀性金属离子的含量不高于0.02mol/L，所述腐蚀性金属离子能与单质铝发生置换反应。

14.如权利要求13所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水，其特征在于，所述腐蚀性金属离子为Ti、Zr、V、Mn、Sm、Nb、Zn、Cr、Ga、Fe、Cd、In、Tl、Co、Ni、Mo、Sn、Tm、Pb、Cu、Tc、Po、Hg、Ag、Rh、Pd、Pt或Au的离子。

15.如权利要求13所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水，其特征在于，所有腐蚀性金属离子的含量之和不高于0.02mol/L。

16.如权利要求13所述的低腐蚀性的酸性氧化电位杀菌水，其特征在于，所述B单元含有液氯、二氧化氯、次氯酸盐、次氯酸盐的复盐、亚氯酸盐或有效氯前体物质中的一种或几种，所述有效氯前体物质是指与酸或者水反应可以生成有效氯的含氯物质。