[发明专利]有机电致发光显示装置的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及有机电致发光（EL）显示装置的制造方法。

背景技术

作为有机EL显示装置的部件的有机EL元件包含依次层叠于基板上的作为下电极形成的第一电极、由有机化合物制成并至少包含发光层的叠层结构（有机化合物）和作为上电极形成的第二电极。在这种情况下，形成有机EL元件的发光层通过使用例如通过阴影掩模执行的蒸镀方法、通过喷墨的选择涂敷方法或光刻方法形成为期望的图案。在这些方法中，当使用光刻方法时，为了针对包含光致抗蚀剂的溶液保护发光层，在抗蚀剂层与发光层之间形成中间层。注意，在抗蚀剂层被构图之后，中间层与有机发光层一起经受干式蚀刻以被加工（部分去除）。

顺便说一句，当使用光刻方法时，发光层在光致抗蚀剂被构图时被紫外线照射，并且在中间层和发光层经受干式蚀刻时被等离子体光照射。此时，包含于紫外线和等离子体光中的短波长光会导致形成发光层的材料的诸如劣化或再结合的反应，这会导致发光层的诸如结构变化的损伤。当发光层由于紫外线和等离子体光受损时，有机EL元件的发光效率会降低并且其耐久性会劣化。

因此，对于针对紫外线和等离子体光的发光层保护，常规上提出了各种提案。例如，在日本专利No.4507759中，提出了在通过光刻方法将发光层构图的情况下中间层形成为包含光吸收材料以使得所述光吸收材料吸收紫外线和等离子体光的方法。

顺便说一句，在日本专利No.4507759中，作为用于中间层的具体的构成材料，使用水溶性聚合物。但是，作为要添加到由水溶性聚合物制成的中间层的光吸收材料的无机颜料由金属氧化物或金属的盐等制成，并且具有耐受O₂气体蚀刻的性能。因此，作为光吸收材料添加的无机颜料具有比经受O₂气体蚀刻的水溶性聚合物的蚀刻速率小的蚀刻速率，由此无机颜料难以受到与水溶性聚合物的一并蚀刻。结果，当执行O₂气体的干式蚀刻时，无机颜料残留为残渣，这可导致第一电极与第二电极之间的短路。因此，在一些情况下出现显示故障。

发明内容

本发明是为了解决上述的问题而提出的，并因此具有提供使得能够制造抑制显示故障的高分辨有机EL显示装置的有机EL显示装置的制造方法的目的。

根据本发明的示例性实施例，提供一种包括各自包含至少包含发光层的有机化合物层的多个有机电致发光元件的有机电致发光显示装置的制造方法，该方法包括：

在基板上形成有机化合物层；

在有机化合物层上依次形成中间层和抗蚀剂层；

通过光刻方法去除抗蚀剂层的一部分；和

通过干式蚀刻选择性地去除抗蚀剂层的所述一部分被去除了的区域中的中间层和有机化合物层，

其中，中间层至少包含遮光层，并且，遮光层具有阻挡具有大于或等于190nm且小于或等于360nm的波长的光的功能。

根据本发明的制造方法，能够抑制由于在曝光或干式蚀刻时施加的紫外光导致的对于包含发光层的有机化合物层的损伤，并进一步实现不产生光吸收材料的残渣的构图。这样，能够制造抑制显示故障的高分辨率有机EL显示装置。

因此，根据本发明，能够提供使得能够制造抑制显示故障的高分辨有机EL显示装置的有机EL显示装置的制造方法。

从参照附图对示例性实施例的以下描述，本发明的其它特征将变得清晰。

附图说明

图1是示出要通过根据本发明的有机EL显示装置的制造方法制造的有机EL显示装置的例子的示意性截面图。

图2A、图2B、图2C、图2D、图2E、图2F、图2G、图2H、图2I、图2J、图2K、图2L、图2M和图2N是示出图1所示的有机EL显示装置的制造步骤的示意性截面图。

具体实施方式

根据本发明的有机EL显示装置的制造方法包括形成第一电极的步骤、形成包含发光层的有机化合物层的步骤、形成中间层的步骤、形成光致抗蚀剂层的图案的步骤、加工中间层的步骤和加工有机化合物层的步骤。

在根据本发明的有机EL显示装置的制造方法中，加工有机化合物层的步骤是去除在形成光致抗蚀剂层的图案的步骤中去除了光致抗蚀剂层的区域中的有机化合物层的步骤。并且，在根据本发明的有机EL显示装置的制造方法中，加工中间层的步骤是去除在形成光致抗蚀剂层的图案的步骤中去除了光致抗蚀剂层的区域中的中间层的步骤。