[发明专利]核磁共振成像装置和核磁共振成像方法有效
申请号: | 201210362961.8 | 申请日: | 2012-09-26 |
公开(公告)号: | CN103033781A | 公开(公告)日: | 2013-04-10 |
发明(设计)人: | 水谷夏彦;小林哲生;石川洁 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G01R33/48 | 分类号: | G01R33/48;G01N24/08 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 李向英 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 核磁共振成像 装置 方法 | ||
1.一种执行核磁共振成像的核磁共振成像装置,包括:
静磁场施加单元,被配置为对放置在要成像的区域中的样品施加静磁场;
RF脉冲施加单元,被配置为施加RF脉冲;
梯度磁场施加单元,被配置为施加梯度磁场;以及
核磁共振信号检测单元,被配置为检测核磁共振信号,
其中,作为核磁共振信号检测单元提供了标量磁强计,其中检测所述核磁共振信号的传感器由碱金属单元构成,
使用共同磁场作为操作所述标量磁强计的偏磁场和作为在所述静磁场施加单元中要向所述样品施加的静磁场,以及
当所述静磁场施加单元在z方向对所述样品施加所述静磁场时,所述标量磁强计的碱金属单元被布置为在所述z方向上不与所述要成像的区域重叠,并且在与所述z方向正交的平面内方向上不与所述要成像的区域相交。
2.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,所述标量磁强计的碱金属单元被布置在下列位置,在所述位置中,所述要成像的区域的在与z方向正交的平面内方向上的、面向所述标量磁强计的碱金属单元的一端和另一端中的每一端,与所述标量磁强计的碱金属单元的中心相连的线所形成的角度超过90度。
3.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,所述标量磁强计的碱金属单元被布置在下列位置,在所述位置中,所述要成像的区域的在与z方向正交的平面内方向上的、面向所述标量磁强计的碱金属单元的一端和另一端中的每一端,与所述标量磁强计的碱金属单元的中心相连的线所形成的角度超过60度。
4.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,对于所述要成像的区域,所述z方向上区域的剖面形状是薄板状的形状,而与所述z方向正交的所述平面内方向上的剖面形状是边的尺寸大于所述薄板的厚度的方形形状。
5.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,对于所述要成像的区域,与所述z方向正交的所述平面内方向上的剖面形状是薄板状的形状,而所述z方向上区域的剖面形状是边的尺寸大于所述薄板的厚度的方形形状。
6.根据权利要求1的核磁共振成像装置,其中,当所述要成像的区域包括所述要成像的区域中的椭圆柱形样品区域时,所述标量磁强计的碱金属单元被布置为在z方向上不与所述要成像的区域中的所述椭圆柱形样品区域重叠,并且被布置为在与所述z方向正交的所述平面内方向上沿着所述椭圆柱形样品区域的侧表面,从而不与所述椭圆柱形样品区域相交。
7.一种执行核磁共振成像的核磁共振成像方法,所述方法使用:
静磁场施加单元,被配置为对放置在要成像的区域中的样品施加静磁场;
RF脉冲施加单元,被配置为施加RF脉冲;
梯度磁场施加单元,被配置为施加梯度磁场;以及
核磁共振信号检测单元,被配置为检测核磁共振信号,
其中,作为核磁共振信号检测单元提供了标量磁强计,其中检测所述核磁共振信号的传感器由碱金属单元构成,
在操作所述标量磁强计的偏磁场作为与被施加到在所述静磁场施加单元中要向所述样品施加的静磁场的共同磁场的情况下,当所述静磁场施加单元在z方向对所述样品施加所述静磁场时,所述标量磁强计的碱金属单元被布置为在所述z方向上不与所述要成像的区域重叠,并且在与所述z方向正交的平面内方向上不与所述要成像的区域相交。
8.根据权利要求7的核磁共振成像方法,其中,所述标量磁强计的碱金属单元被布置在下列位置,在所述位置中,所述要成像的区域的在与z方向正交的平面内方向上的、面向所述标量磁强计的碱金属单元的一端和另一端中的每一端,与所述标量磁强计的碱金属单元的中心相连的线所形成的角度超过90度。
9.根据权利要求7的核磁共振成像方法,其中,所述标量磁强计的碱金属单元被布置在下列位置,在所述位置中,所述要成像的区域的在与z方向正交的平面内方向上的、面向所述标量磁强计的碱金属单元的一端和另一端中的每一端,与所述标量磁强计的碱金属单元的中心相连的线所形成的角度超过60度。
10.根据权利要求7的核磁共振成像方法,其中,对于所述要成像的区域,所述z方向上区域的剖面形状是薄板状的形状,而与所述z方向正交的所述平面内方向上的剖面形状是边的尺寸大于所述薄板的厚度的方形形状。
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