[发明专利]提供基准信号的集成电路、装置及其方法有效

专利信息
申请号: 201210363980.2 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103163928A 公开(公告)日: 2013-06-19
发明(设计)人: 郑清华 申请(专利权)人: 凹凸电子(武汉)有限公司
主分类号: G05F1/56 分类号: G05F1/56
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇
地址: 430074 湖北省武汉*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 提供 基准 信号 集成电路 装置 及其 方法
【权利要求书】:

1.一种集成电路,用于给调节器提供基准信号,其特征在于,所述集成电路包括:

比较电路,用于根据所述调节器的约束信号和所述基准信号之间的差值,输出控制信号;以及

第一基准信号调整器,与所述比较电路耦合,用于根据所述控制信号调整所述基准信号,使所述调节器处于启动阶段时,所述基准信号增加至预设电压,且不会引起所述调节器中的反馈控制回路的饱和。

2.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,所述第一基准信号调整器包括:

电容,用于提供所述基准信号;以及

充电控制器,与所述电容耦合,用于根据所述比较电路输出的所述控制信号,调节所述电容的充电电流,以控制所述基准信号的压摆率。

3.根据权利要求2所述的集成电路,其特征在于,所述充电控制器包括:

电流源,用于产生恒流信号;以及

晶体管,与所述比较电路、所述电流源和所述电容耦合,所述晶体管根据所述基准信号和所述约束信号之间的差值,在饱和状态和线性状态之间转换,以调节所述电容的所述充电电流。

4.根据权利要求2所述的集成电路,其特征在于,所述充电控制器包括:

电流控制器,与所述比较电路耦合,所述电流控制器被配置为:

当所述基准信号不超过所述约束信号时,提供控制电流信号的初始值;以及

当所述基准信号超过所述约束信号时,根据所述基准信号和所述约束信号之间的差值,调节所述控制电流信号;以及

电流镜,与所述电流控制器和所述电容耦合,用于产生等于所述控制电流信号的所述充电电流。

5.根据权利要求4所述的集成电路,其特征在于,所述电流控制器包括:

电流源,所述电流源包括放大器、第一晶体管和电阻,所述电流源根据控制电压信号确定所述控制电流信号的所述初始值;以及

第二晶体管,与所述电流源耦合,所述第二晶体管根据所述基准信号和所述约束信号之间的差值,在饱和状态和线性状态之间转换,以调节所述控制电流信号。

6.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,

所述约束信号包括所述调节器的输入电压信号;以及

所述第一基准信号调整器根据所述控制信号调节所述基准信号,使所述基准信号不超过所述输入电压信号。

7.根据权利要求1所述的集成电路,其特征在于,

所述约束信号包括所述调节器的供电电压信号,并根据所述调节器中的所述反馈控制回路的裕度要求调节所述供电电压信号;以及

所述第一基准信号调整器根据所述控制信号调节所述基准信号,使所述基准信号不超过调节后的所述供电电压信号。

8.根据权利要求2所述的集成电路,其特征在于,所述集成电路还包括:

第二基准信号调整器,与所述第一基准信号调整器耦合,用于当所述调节器在稳定状态时,将所述基准信号保持在所述预设电压。

9.根据权利要求8所述的集成电路,其特征在于,所述第二基准信号调整器充当开关模块,用于当所述基准信号超过所述预设电压减去偏置电压时,切断所述第一基准信号调整器。

10.根据权利要求8所述的集成电路,其特征在于,所述第二基准信号调整器包括提供所述预设电压的电压源,该电压源与所述充电控制器耦合,当所述电容完全充电时,所述电容的电压达到最大值,且所述最大值为所述预设电压。

11.一种用于产生基准信号的装置,其特征在于,所述装置包括:

调节器,用于提供输出信号,并根据所述基准信号将所述输出信号调节至特定值;

电源,与所述调节器耦合,用于给所述调节器提供约束信号;以及

自适应基准信号发生器,与所述调节器耦合,用于根据所述约束信号,产生所述基准信号,所述基准信号将所述调节器的反馈控制回路保持在不饱和状态。

12.根据权利要求11所述的用于产生基准信号的装置,其特征在于,所述自适应信号发生器包括:

比较电路,用于根据所述约束信号和所述基准信号之间的差值,输出控制信号;以及

第一基准信号调整器,与所述比较电路耦合,用于根据所述控制信号调节所述基准信号,使所述调节器处于启动阶段时,所述基准信号增加至预设电压。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凹凸电子(武汉)有限公司,未经凹凸电子(武汉)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210363980.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top