[发明专利]MoTi靶材及其制造方法无效

专利信息
申请号: 201210364164.3 申请日: 2012-09-26
公开(公告)号: CN103014638A 公开(公告)日: 2013-04-03
发明(设计)人: 上滩真史;井上惠介 申请(专利权)人: 日立金属株式会社
主分类号: C23C14/34 分类号: C23C14/34;C23C14/14;B22F3/12;C22C14/00;C22C27/04;C22C30/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: moti 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种MoTi靶材,其特征在于,具有含有Ti 20~80原子%且剩余部分由Mo和不可避免的杂质构成的组成,所述作为不可避免的杂质之一的氢为10质量ppm以下。

2.一种MoTi靶材的制造方法,其特征在于,具有在低于100Pa的压力、800℃以上、0.5小时以上的条件下对MoTi烧结体进行热处理的工序。

3.根据权利要求2所述的MoTi靶材的制造方法,其特征在于,所述MoTi烧结体通过下述工序制造:

(1)将Mo一次粒子凝聚而成的Mo凝聚体破碎至平均粒径10μm以下,制备Mo粉末的工序;

(2)准备平均粒径50μm以下的Ti粉末的工序;

(3)将所述Mo粉末与所述Ti粉末按照含有Ti 20~80原子%的量进行混合,制备MoTi混合粉末的工序;和

(4)对所述MoTi混合粉末进行加压烧结,制备MoTi烧结体的工序。

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