[发明专利]磁盘用玻璃基板的制造方法及磁盘的制造方法

权利要求书

1.磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，

在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，

在所述洗涤工序中进行还原所述洗涤液的操作。

2.权利要求1所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，还原所述洗涤液的操作为对所述洗涤液进行光照射。

3.磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，

在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，

与所述洗涤工序同时、或者在所述洗涤工序之前或之后，对所述洗涤液进行光照射。

4.权利要求3所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，照射所述洗涤液的光为紫外线或可见光。

5.权利要求4所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述紫外线或可见光的波长为300nm～450nm。

6.磁盘用玻璃基板的制造方法，其包括对玻璃基板的主表面进行抛光的抛光工序、和对抛光工序后的玻璃基板进行洗涤的洗涤工序，其特征在于，

在所述洗涤工序中，用含有草酸根离子和2价铁离子的洗涤液，在酸性条件下进行洗涤，

与所述洗涤工序同时、或者在所述洗涤工序之前或之后，进行将所述洗涤液中含有的2价铁离子被氧化而生成的3价铁离子还原的操作。

7.权利要求1～6任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述抛光工序采用具有含铁抛光平板的抛光装置实施，在所述洗涤工序中，溶解铁系异物。

8.权利要求1～7任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述洗涤液还含有具有羧基的有机酸。

9.权利要求8所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述有机酸是比草酸的分子量大的羧酸。

10.权利要求1～9任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述洗涤液的pH为1.8～4.2。

11.权利要求1～10任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述洗涤液中的草酸的浓度为0.0l5mol/L～0.24mol/L。

12.权利要求1～11任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述洗涤液中含有的2价铁离子由硫酸铁(II)铵、硫酸铁(II)和草酸铁(II)中的至少1种供给，

当供给所述2价铁离子的物质为硫酸铁(II)铵时，在所述洗涤液中的浓度为0.00038mol/L～0.0077mol/L。

13.权利要求1～12任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述洗涤工序后的玻璃基板的表面粗糙度为0.2nm以下。

14.磁盘的制造方法，其特征在于，在由权利要求1～13任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法得到的磁盘用玻璃基板的主表面上，至少形成磁性层。