[发明专利]光罩及其制造方法在审
申请号: | 201210375589.4 | 申请日: | 2012-09-27 |
公开(公告)号: | CN103698971A | 公开(公告)日: | 2014-04-02 |
发明(设计)人: | 金普楠;常聪 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F1/64 | 分类号: | G03F1/64;G03F1/54 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 牛峥;王丽琴 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 及其 制造 方法 | ||
1.一种光罩的制造方法,包括:
提供未安装保护膜的光罩,其包括透明基材及设置于透明基材上表面的吸收层;
使用去离子水清洗所述未安装保护膜的光罩,在所述透明基材上表面形成一层透光的光致超亲水性薄膜;
安装保护膜。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在使用去离子水清洗所述未安装保护膜的光罩后,以及在所述透明基材上表面形成一层透光的光致超亲水性薄膜之前,还包括光罩缺陷检验的步骤。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,在安装保护膜后,还包括使用去离子水清洗光罩的步骤,以及光罩缺陷检验的步骤。
4.根据权利要求1至3任一项所述的方法,其特征在于,在所述透明基材下表面也形成有一层透光的光致超亲水性薄膜。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述透光的光致超亲水性薄膜的为二氧化钛光催化薄膜。
6.一种光罩,包括透明基材、位于透明基材上表面的吸收层,以及设置于吸收层之上的保护膜和用于固定所述保护膜的框架,其特征在于,未覆盖有吸收层的所述透明基材的上表面还设置有一层透光的光致超亲水性薄膜。
7.根据权利要求6所述的光罩,其特征在于,所述透明基材下表面也设置有一层透光的光致超亲水性薄膜。
8.根据权利要求6或7所述的光罩,其特征在于,所述透光的光致超亲水性薄膜为二氧化钛光催化薄膜。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
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