[发明专利]光刻胶成膜树脂及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及微电子加工领域，尤其涉及一种光刻胶成膜树脂及其制备方法。

背景技术

随着微电子加工工艺的发展，光刻胶在行业中得到了广泛地运用。目前常用的正性光刻胶中的成膜树脂多为酚醛树脂，因其单体为苯酚或取代苯酚和甲醛，在制备过程中所使用的原料较容易获得，且较容易合成。所生成的酚醛树脂具有一定的碱溶性，使得光刻胶可以通过碱性溶液进行显影，经济环保。

但是，在微电子产品加工的过程中，需要在高温环境下进行加工，此时因光刻胶中酚醛树脂的玻璃化转变温度为70-120℃，过高的环境温度会使通过构图工艺形成的图形发生形变，从而无法实现高精度的微电子加工。

发明内容

本发明的实施例提供一种热稳定性较高的光刻胶成膜树脂及其制备方法。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，本发明提供了一种光刻胶成膜树脂，由式（1）所示的单体A、式（2）所示的单体B和式（3）所示的单体C聚合而成；

其中，所述单体A的物质的量的百分比为20%-60%；所述单体B的物质的量的百分比为20%-60%；所述单体C的物质的量的百分比为10%-60%；所述n为1-10的整数。

另一方面，提供了一种光刻胶成膜树脂的制备方法，包括：

向溶剂中分别混入式（1）所示的单体A、式（2）所示的单体B、式（3）所示的单体C和引发剂，形成第一混合溶液；

以50-90℃的反应温度对所述第一混合溶液进行加热，使所述单体A、所述单体B和所述单体C聚合，反应时间为8-20小时；

对反应后的所述第一混合溶液进行自然冷却，并在甲醇和水的第二混合溶液中析出光刻胶成膜树脂的白色沉淀；

过滤出所述第二混合溶液中的白色沉淀、并进行干燥，获取所述光刻胶成膜树脂；

在所述光刻胶成膜树脂的制备过程中，所述单体A的物质的量的百分比为20%-60%，所述单体B的物质的量的百分比为20%-60%，所述单体C的物质的量的百分比为10%-60%，所述n为1-10的整数。

本发明实施例提供的一种光刻胶成膜树脂，通过式（1）所示的单体A中的胺基提高光刻胶成膜树脂的感度，并通过式（2）所示的单体B中的马来酰亚胺基团提高光刻胶成膜树脂的热稳定性，避免了高温加工过程中通过构图工艺形成的图形发生形变，提高了高温加工的良品率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例所述的光刻胶成膜树脂的制备方法的流程图。

具体实施方式

下面结合附图对本发明实施例一种光刻胶成膜树脂进行详细描述。

应当明确，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

一种光刻胶成膜树脂，由式（1）所示的单体A、式（2）所示的单体B和式（3）所示的单体C聚合而成；

其中，所述单体A的物质的量的百分比为20%-60%，例如所述单体A的物质的量的百分比可以为20%、30%、40%、50%和60%等；所述单体B的物质的量的百分比为20%-60%，例如所述单体B的物质的量的百分比可以为20%、30%、40%、50%和60%等；所述单体C的物质的量的百分比为10%-60%，例如所述单体C的物质的量的百分比可以为10%、20%、30%、40%、50%和60%等；所述n为1-10的整数，例如n可以为1、5和10等。

进一步的，所述R¹-R⁴各自地选自氢、卤素、羟基、取代或未取代的C₁-C₄烷基、C₁-C₄烷氧基和取代或未取代的C₁-C₄胺基中一种；所述R⁵-R⁶各自地选自氢、取代或未取代的烷基和杂环基中的一种。