[发明专利]等离子体反应机台

权利要求书

1.一种等离子体反应机台，包含：

一腔体，具有一容置空间；

一平台，设置于该腔体内；及

一缓冲组件，设置于该腔体内且邻近该平台的一侧边，该缓冲组件与该平台共同将该容置空间区隔为一第一空间与一第二空间，并且该缓冲组件部分与该侧边形成一气体通道，该气体通道由该第一空间朝该第二空间的方向呈渐扩状而连通该第一空间与该第二空间。

2.如权利要求1所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件包含一本体部与一倾斜部，该倾斜部的一端连接于该本体部，另一端朝向该平台倾斜延伸。

3.如权利要求2所述的等离子体反应机台，其中该倾斜部与该平台之间形成该气体通道。

4.如权利要求2所述的等离子体反应机台，其中该倾斜部与该平台之间的夹角介于15°至75°之间。

5.如权利要求2所述的等离子体反应机台，还包含：一抽气单元，位于该腔体，抽取气体由该第二空间朝该第一空间的方向流动。

6.如权利要求5所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件还包含一遮蔽部，对应该抽气单元设置并连接于该倾斜部。

7.如权利要求6所述的等离子体反应机台，其中该倾斜部未连接于该本体部的一端与该平台之间形成一开口，该开口位于该遮蔽部的两端。

8.如权利要求7所述的等离子体反应机台，其中距离该遮蔽部较远的该开口宽度大于距离该遮蔽部较近的该开口宽度，其中该开口宽度为该倾斜部未连接于该本体部的一端与该平台间的最短距离。

9.如权利要求1所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件还包含一延伸部，连接于该倾斜部，并与该平台之间形成一开口。

10.如权利要求1所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件还包含多个第一挡板与多个第二挡板，交错排列而围绕于该平台的侧边，所述多个第一挡板与所述多个第二挡板分别与该平台之间形成该气体通道。

11.一种等离子体反应机台，包含：

一腔体，具有一底面以及至少一侧壁面，该底面以及该至少一侧壁面围出一容置空间；

一平台，设置于该腔体内；及

至少一缓冲组件，设置于该平台与该至少一侧壁面之间，该缓冲组件具有一导流面，且该导流面靠近该平台的一端与该底面的间距小于该导流面远离该平台的一端与该底面的间距。

12.如权利要求11所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件与该平台共同将该容置空间区隔为一第一空间与一第二空间。

13.如权利要求11所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件包含一本体部与一倾斜部，该倾斜部的一端连接于该本体部，另一端朝向该平台倾斜延伸，其中该导流面位于该倾斜部朝向该第二空间的一表面。

14.如权利要求13所述所述的等离子体反应机台，其中该倾斜部与该平台之间形成一气体通道。

15.如权利要求13所述的等离子体反应机台，其中该倾斜部与该平台之间的夹角介于15°至75°之间。

16.如权利要求13所述的等离子体反应机台，还包含：一抽气单元，位于该腔体，抽取气体由该第二空间朝该第一空间的方向流动。

17.如权利要求16所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件还包含一遮蔽部，对应该抽气单元设置并连接于该倾斜部。

18.如权利要求17所述的等离子体反应机台，其中该倾斜部未连接于该本体的一端与该平台之间形成一开口，该开口位于该遮蔽部的两端。

19.如权利要求18所述的等离子体反应机台，其中距离该遮蔽部较远的该开口大于距离该遮蔽部较近的该开口。

20.如权利要求11所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件还包含一延伸部，连接于该倾斜部，并与该平台之间形成一开口。

21.如权利要求11所述的等离子体反应机台，其中该缓冲组件还包含多个第一挡板与多个第二挡板，交错排列而围绕于该平台的侧边，所述多个第一挡板与所述多个第二挡板分别与该平台之间形成该气体通道。