[发明专利]液晶填充装置无效

专利信息
申请号: 201210381365.4 申请日: 2011-07-26
公开(公告)号: CN102967968A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: 张忠纬 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: G02F1/1341 分类号: G02F1/1341
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 郭蔚
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 液晶 填充 装置
【权利要求书】:

1.一种液晶填充装置,包含:

一液晶滴下机,用以对一基板滴下至少一液晶;以及

一气枪,用以对该基板上的该液晶喷气,使得该液晶流动,以扩大该液晶在该基板上的覆盖面积。

2.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的喷头至该基板的距离为约60~5000μm。

3.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的喷头至该基板的距离为约80~3000μm。

4.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的喷头至该基板的距离为约80~2500μm。

5.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的气压为约0.04~0.25Mpa。

6.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的气压为约0.04~0.15Mpa。

7.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪为洁净干燥空气枪、氮气枪或上述的任意组合。

8.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪所喷出的气体温度为约25~40℃。

9.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的喷头为线形。

10.根据权利要求9所述的液晶填充装置,其特征在于,更包含:

一移动装置,用以在该气枪喷气时,使该气枪相对于该基板线性移动,藉此让该气枪所喷出之一气体流扫过该基板的表面。

11.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的喷头为点形。

12.根据权利要求11所述的液晶填充装置,其特征在于,更包含:

一移动装置,用以在该气枪喷气时,使该气枪相对于该基板线性来回晃动,藉此让该气枪喷往该基板之一气体流,以该基板上的该液晶为中心,线性来回晃动。

13.根据权利要求12所述的液晶填充装置,其特征在于,该液晶滴下机用以对该基板滴下多个的该液晶,且所述液晶彼此间隔一间距;以及

其中该气体流线性来回晃动的振幅约达该间距的50%~70%。

14.根据权利要求12所述的液晶填充装置,其特征在于,该液晶滴下机用以对该基板滴下多个的该液晶,且所述液晶在该基板上排列成一数组;以及

其中该气体流线性来回晃动的方向为该数组的行方向或列方向。

15.根据权利要求12所述的液晶填充装置,其特征在于,该液晶滴下机用以对该基板滴下多个的该液晶,且所述液晶在该基板上排列成一数组;以及

其中该气体流线性来回晃动的方向不为该数组的行方向或列方向。

16.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该液晶滴下机用以对该基板滴下多个的该液晶,且所述液晶彼此间隔一间距,该间距为约5~25mm。

17.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,该液晶滴下机所滴下的该液晶的单位重量为约0.3~3mg/滴。

18.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,更包含:

一倾斜装置,用以倾斜该基板,使得该基板与一水平面夹一预定角度。

19.根据权利要求18所述的液晶填充装置,其特征在于,该预定角度为约5°~20°。

20.根据权利要求19所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的气压为约0.03~0.25Mpa。

21.根据权利要求19所述的液晶填充装置,其特征在于,该气枪的气压为约0.03~0.15Mpa。

22.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,更包含:

一旋转装置,用以旋转该基板。

23.根据权利要求1所述的液晶填充装置,其特征在于,更包含:

一静电消除器,用以消除该基板与该液晶上的静电。

24.根据权利要求23所述的液晶填充装置,其特征在于,该静电消除器为软X射线源(soft X-ray source)、除静电离子棒(Ionizer Bar)或上述的任意组合。

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