[发明专利]光控制镜片及其光源装置有效

专利信息
申请号: 201210382471.4 申请日: 2012-10-10
公开(公告)号: CN103511987A 公开(公告)日: 2014-01-15
发明(设计)人: 王智鹏;陈皇昌;涂智信 申请(专利权)人: 一品光学工业股份有限公司
主分类号: F21V14/06 分类号: F21V14/06;G02B27/09;F21Y101/02
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 控制 镜片 及其 光源 装置
【说明书】:

技术领域

发明是有关于一种镜片及其光源装置,尤其是关于一种适用于以发光二极管为光源的各类照明装置的光控制镜片及其光源装置。

背景技术

液晶显示器是广泛地应用于电视、笔记型电脑、平版型电脑及手机等具有显示功能的电子产品上。于液晶显示器中,已知可采用冷阴极萤光灯(CCFL)、场效发光器(EL)与发光二极管(Light-Emitting Diode,LED)等可见光源来作为其背光源。近年来,由于LED光源具有光亮度均匀、使用寿命长、体积自由度大、低电压(或交流)驱动、不需要逆变器及色域宽广等的优点,使得LED光源渐渐取代传统的冷阴极萤光灯而成为主流的趋势。

LED背光装置通常包括多个LED阵列以提供LCD面板照明。为使显示器受光均匀,于现有技术中,主要通过改良覆盖于LED光源上的光控制镜片,通过镜片的折射率及面型以均匀分配LED的光束。因此,现今采用LED做为背光源的显示器中,如何改善光控制镜片以增进LED背光源的光亮度均匀性或加大光分布范围,则为主要的改善重点,例如US7348723、US7963680、US7621657US7798679、US7866844、US7766530、US20090116245、US7474475及US7746565。

由于LED晶片的光强度(单位为Candela)在光轴处最强,且愈远离光轴的光强度将愈弱,因此于现有技术中,往往通过增加光出射面与光入射面的折射能力以减小其近轴处的光强度,并将光强度补偿至远轴区域以增加光均匀度;然而,如此一来将导致光束于光出射面发生菲涅尔反射现象,而造成光通量降低的副作用。因此,需要设计一光控制镜片,其不但可均匀分配光束,亦可增加LED的光利用率,以解决现有技术中,光出射面发生部分反射而造成光损失的问题。

发明内容

本发明主要目的在于提供一种光控制镜片及其光源装置,以增加光源装置的光利用率并可适当补偿远轴方向的光强度,进而形成更均匀且光发散角度(emission angle)大于120°的光型。

为达成上述的目的,本发明提出一种光控制镜片,其包含一光出射面、一光入射面及一全反射斜面。光出射面为一非球面且满足式(1):0≤RER/RE≤0.5。其中,RER为光出射面的一至高点沿着垂直于光控制镜片的光轴方向至光轴的距离;RE为光出射面的有效半径。光入射面是与光出射面相对,且构成具有一开口的一凹穴。其中,设光入射面所构成的凹穴的开口的中心为一入射原点,设L1为自入射原点至光入射面上任一点的距离,设入射原点至光入射面上任一点的连线与所述光轴的夹角为θ,则在至少π/18<θ<2π/9的范围内,随着θ渐增,L1将渐减。全反射斜面是与光出射面相对并设置于光入射面的外围侧,其与垂直于光轴的平面间具有小于45度的夹角α。其中,光出射面的有效半径大于自光出射面的任一点沿光轴方向至通过入射原点且垂直于光轴的平面的距离。其中,一光束是经由光入射面进入光控制镜片并射至光出射面,且来自光出射面的一反射光束于全反射斜面被全反射而再度射至光出射面并离开光控制镜片。

较佳地,光控制镜片的光入射面可对称于光轴并包含一第一光学作用区及一第二光学作用区。第一光学作用区是设置于光入射面的中央,第二光学作用区是连接第一光学作用区的外围。第一光学作用区与第二光学作用区之间具有一光程变化点,所述光程变化点至入射原点的连线与光轴间具有夹角θ0。光程变化点满足式(2):0.71≥cosθ0≥0.51。其中,当θ<θ0时,随着θ渐大,L1将渐减;当θ≧θ0时,随着θ渐大,L1将单调地渐增。由此,可增加光入射面的折射能力以减小自其光入射面入射的发光体的近轴方向的光强度,并将光束偏折补偿至远轴方向以均匀分配发光体的光通量。

较佳地,光控制镜片除了满足式(1)及式(2)的条件外,可更满足以下式(3),其中,θe为光出射面与光轴的交点至光出射面的至高点的连线与光轴的夹角;θk为光入射面与光轴的交点至光程变化点的连线与光轴的夹角。由此,使得本发明的光控制镜片可进一步地具有适当的屈折力,并控制近轴光束的密度,使得与其组合的光源装置所发出光型的中央暗区的直径为较适当的大小,以增进光源装置的均光性。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于一品光学工业股份有限公司,未经一品光学工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210382471.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top