[发明专利]用高硼硅、高铝硅玻璃生产防眩光玻璃的工艺有效
申请号: | 201210383038.2 | 申请日: | 2012-10-11 |
公开(公告)号: | CN102887647A | 公开(公告)日: | 2013-01-23 |
发明(设计)人: | 李金钟;熊国祥;张隽勇;赵俊美 | 申请(专利权)人: | 郑州恒昊玻璃技术有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 郑州联科专利事务所(普通合伙) 41104 | 代理人: | 田小伍 |
地址: | 450000 河南省郑州*** | 国省代码: | 河南;41 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用高硼硅 高铝硅 玻璃 生产 眩光 工艺 | ||
技术领域
本发明属于玻璃的制备领域,尤其涉及一种用高硼硅、高铝硅玻璃生产防眩光玻璃的工艺。
背景技术
高硼硅、高铝硅玻璃,是利用玻璃在高温状态下导电的特性,通过在玻璃内部加热来实现玻璃熔化,经先进生产工艺加工而成。高硼硅、高铝硅玻璃具有非常低的热膨胀系数耐高温,耐200度的温差剧变,耐酸耐碱耐水,抗腐蚀性能优越,高硼硅、高铝硅玻璃所具有的这些特性决定了它比普通的硅酸钠玻璃更难加工和处理,用一般的蒙砂方法进行蚀刻,得到的蒙砂效果差、蒙砂颗粒不均匀等。国内有很多关于防眩玻璃的制作方法及其工艺,但其主要针对的是普通的钠钙硅玻璃,对高硼硅等超硬玻璃的防眩效果的专利目前还没有,如CN201010270000.5的一步法制作低反射玻璃的方法,该专利首先主要是针对普通的钠钙硅玻璃,其次,通过该专利的方法制作的防眩光玻璃光泽度和透光率等技术参数只能在很小的范围内变化,不能够满足客户的需求,再如CN200810038886.3也是针对普通的钠钙硅玻璃进行防眩光处理,通过其溶液配比蒙砂高硼硅玻璃,防眩效果不好且表面蒙砂颗粒不均匀。
发明内容
本发明的目的是提供一种蒙砂效果好的用高硼硅、高铝硅玻璃生产防眩光玻璃的工艺。
为达到上述目的,本发明采用的技术方案是:
用高硼硅、高铝硅玻璃生产防眩光玻璃的工艺,包括以下步骤:
(1)按蒙砂液配方称取原料,混合搅拌均匀,熟化24~30小时,配成蒙砂液,所述蒙砂液的原料重量配比是:氟化氢铵20~60份、氟化铵5~30份、氟硅酸2.5~10份、氯化钾5~20份或氟化氢钾5~20份、氯化铵5~15份、硫酸钡5~20份、硫酸钠5~10份、氟硅酸钠2.5~10份、填料10~30份、强酸25~55份;
(2)将待蒙砂的玻璃清洗干净后,将不需要蒙砂的一面进行保护处理;
(3)将保护好的玻璃放入预处理液中进一步清洗;
(4)将处理好的玻璃放入熟化好的蒙砂液里进行蒙砂30~200秒,取出并用水清洗;
(5)将蒙砂好的玻璃放入抛光液里蚀刻后即得防眩光玻璃成品。
所述步骤(1)中的强酸为硫酸或盐酸或盐酸与硫酸混合液,所述硫酸浓度为95~98%,盐酸浓度为32~37%。
所述步骤(1)中的填料包括淀粉、CMC、钛白粉、活性炭、氟化钙。
所述预处理液及抛光液为硫酸和氢氟酸的混合液,所述硫酸浓度为95~98%,氢氟酸浓度为50~55%。
所述步骤(2)中的保护处理是指用胶带或油墨对不需要蒙砂的一面进行保护处理。
本发明的有益效果是:
(1)解决了高硼硅、高铝硅玻璃硬度大难蒙砂这一难题,在保证其蒙砂均匀,防眩效果好的同时,提高了玻璃的硬度,具有耐酸碱性、抗腐蚀性等优点;
(2)本发明中在混合性强酸的作用下引用K+、NH4+、Na+等离子,生成的K2BF6、Na2BF6、(NH4)2BF6等物质由于在氢氟酸中的溶解度比较小,而一般认为溶解度愈小,越不容易从玻璃表面脱离,在表面形成保护层晶体,使得高硼硅玻璃表面形成均匀的蒙砂颗粒,从而形成好的防眩效果;
(3)填料中加入一定量的活性炭,使得蒙砂液混合溶解更迅速,在短时间内蒙砂液更好的相互作用;
(4)加工出的玻璃防眩效果好,加工尺寸和技术参数可以根据需要进行调整和生产;
(5)本发明制得的产品可广泛应用在各方面,比如电子白板、大型广告牌、相框、液晶显示屏、手机屏幕、电脑滑鼠板、仪表显示屏等,具有硬度高、经久耐用等特点。
具体实施方式
实施例1
本发明所用蒙砂液的配方,按以下重量配比称取原料:
氟化氢铵30份
氟化铵10份
氟硅酸5份
氯化铵10份
氯化钾5份
硫酸钡10份
硫酸钠5份
填料10份
硫酸25份
用高硼硅、高铝硅玻璃制备防眩光玻璃的的操作步骤如下:
(1)按蒙砂液配方称取原料,混合搅拌均匀,熟化24~30小时,配成蒙砂液;
(2)将待蒙砂的玻璃清洗干净后,将不需要蒙砂的一面用胶带或防腐油墨进行保护处理;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于郑州恒昊玻璃技术有限公司,未经郑州恒昊玻璃技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201210383038.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种柔性磁性薄膜饱和磁致伸缩系数的测量方法
- 下一篇:一种透明人工电磁材料