[发明专利]一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器及其制作方法

权利要求书

1.一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器，其特征在于，包括有一有机玻璃板（10），有机玻璃板（10）与光纤布拉格光栅（1）的两端固定相连，光纤布拉格光栅（1）的栅区部分为无包层的纤芯栅区（4）。

2.根据权利要求1所述的一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器，其特征在于，所述的光纤布拉格光栅1采用普通光纤布拉格光栅。

3.根据权利要求1所述的一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器，其特征在于，所述的机玻璃板（10）与光纤布拉格光栅（1）的两端采用石蜡固定连接。

4.根据权利要求1所述的一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器，其特征在于，所述的无包层的纤芯栅区（4）的直径在1-8μm量级。

5.一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将普通光纤布拉格光栅的两端固定在有机玻璃上，将其置于可调温箱（9）内，将温度控制在17℃～25℃内一恒定温度；

2）在步骤1）的光纤布拉格光栅栅区包层上滴加氢氟酸0.8～1.2ml，腐蚀时间为80～125分钟，腐蚀掉栅区的包层，使栅区纤芯直接裸露；

3）将步骤2）腐蚀的微纳光纤布拉格光栅连同有机玻璃取出，用吸管吸去残留的腐蚀液，用清水清洗后再涂上浓度为40%的NaOH溶液浸泡10分钟，确保残余氢氟酸被完全中和，最后用去离子水清洗干净即可。

6.根据权利要求5所述的一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将普通光纤布拉格光栅的两端固定在有机玻璃上，将其置于可调温箱（9）内，将温度控制在25℃的恒温；

2）在步骤1）的光纤布拉格光栅栅区包层上滴加氢氟酸1.2ml，腐蚀时间为80分钟，腐蚀掉栅区的包层，使栅区纤芯直接裸露；

3）将步骤2）腐蚀的微纳光纤布拉格光栅连同有机玻璃取出，用吸管吸去残留的腐蚀液，用清水清洗后再涂上浓度为40%的NaOH溶液浸泡10分钟，确保残余氢氟酸被完全中和，最后用去离子水清洗干净即可。

7.根据权利要求5所述的一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：

1）将普通光纤布拉格光栅的两端固定在10cm×5cm×0.5cm的有机玻璃上，方向沿长边方向，并用石蜡固定，将其置于可调恒温箱内，将温度控制在17℃的恒温；

2）在步骤1）的光纤布拉格光栅栅区包层上滴加氢氟酸0.8ml，腐蚀时间为125分钟，腐蚀掉栅区的包层，使栅区纤芯直接裸露在空气中；

3）将步骤2）腐蚀的微纳光纤布拉格光栅连同有机玻璃取出，用吸管吸去残留的腐蚀液，用清水清洗后再涂上浓度为40%的NaOH溶液浸泡10分钟，确保残余氢氟酸被完全中和，最后用去离子水清洗干净即可。

8.一种微纳光纤布拉格光栅折射率传感器折射率检测装置，其特征在于，包括有折射率匹配液槽（8），折射率匹配液槽（8）与可调温箱（9）内的微纳光纤布拉格光栅折射率传感器的一端相连，微纳光纤布拉格光栅传感器的另一端在与光纤环形器（11）相连，光纤环形器（11）还分别与宽带光源（6）和光谱分析仪(7)相连。