[发明专利]压印方法、压印装置和设备制造方法有效

专利信息
申请号: 201210385057.9 申请日: 2012-10-12
公开(公告)号: CN103048878A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 中川一树;长谷川敬恭;村上洋介;松本隆宏 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: G03F7/00 分类号: G03F7/00;H01L21/027
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 杨小明
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 压印 方法 装置 设备 制造
【权利要求书】:

1.一种把在模具上形成的图案转印到基板上的树脂的压印方法,所述方法包括:

把基板保持在保持面上的保持步骤;

使在基板上形成图案处的基板侧图案区的形状变形的变形步骤;

使经变形的所述基板侧图案区上的树脂与模具接触的接触步骤;

固化树脂的固化步骤;和

使模具脱离与模具接触的树脂的脱模步骤,

其中在所述变形步骤中,在沿着基板的表面的方向上对基板施加变形力,所述变形力大于作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的最大静摩擦力。

2.根据权利要求1所述的压印方法,其中在变形步骤之前,或者在变形步骤之中,作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的摩擦力被减小。

3.根据权利要求1所述的压印方法,其中在变形步骤之后,并在脱模步骤之前,作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的摩擦力被增大。

4.根据权利要求1所述的压印方法,其中在保持步骤中利用吸附来保持基板,在变形步骤之前,或者在变形步骤之中,作用在与所述基板侧图案区对应的基板的背面上的吸附力被减小。

5.根据权利要求1所述的压印方法,其中在保持步骤中利用吸附来保持基板,在变形步骤之后,并在脱模步骤之前,作用在与所述基板侧图案区对应的基板的背面上的吸附力被增大。

6.根据权利要求1所述的压印方法,其中在变形步骤中,所述基板侧图案区被加热。

7.根据权利要求1所述的压印方法,还包括:

通过检测在基板上形成的多个标记的位置,获取关于所述基板侧图案区的形状的信息的获取步骤,

其中在变形步骤中,基于在获取步骤中获取的信息,使所述基板侧图案区的形状变形,以便减小所述基板侧图案区的形状和在模具上形成的图案的形状之间的差异。

8.根据权利要求1所述的压印方法,还包括:

使形成图案处的模具的图案的形状变形的模具变形步骤。

9.根据权利要求8所述的压印方法,还包括:

通过检测在基板上形成的多个标记的位置和在模具上形成的多个标记的位置来获取关于所述基板侧图案区的形状和在模具上形成的图案的形状之间的差异的信息的获取步骤,

其中在变形步骤和模具变形步骤中,基于在所述获取步骤中获取的信息,使所述基板侧图案区的形状和在模具上形成的图案的形状变形,以便减小它们之间的差异。

10.一种把在模具上形成的图案转印到基板上的树脂的压印设备,所述压印设备包括:

基板保持单元,在所述基板保持单元上形成有用于保持基板的保持面;

变形机构,所述变形机构使在基板上形成图案处的基板侧图案区的形状变形;

摩擦力调整机构,所述摩擦力调整机构调整作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的摩擦力;和

控制单元,所述控制单元控制所述变形机构或所述摩擦力调整机构,以使得沿基板的表面的方向作用于所述基板侧图案区上的变形力大于作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的最大静摩擦力。

11.根据权利要求10所述的压印设备,其中所述控制单元控制摩擦力调整机构,以便在所述变形机构使所述基板侧图案区的形状变形之前,或者在所述变形机构使所述基板侧图案区的形状变形之时,减小摩擦力。

12.根据权利要求10所述的压印设备,其中所述基板保持单元利用吸附来保持基板,并通过调整作用在与所述基板侧图案区对应的基板的背面上的吸附力来调整摩擦力。

13.根据权利要求10所述的压印设备,其中所述变形机构包括加热所述基板侧图案区的加热机构。

14.根据权利要求10所述的压印设备,其中所述基板保持单元包括能够独立地改变吸附力的多个吸附单元。

15.一种器件制造方法,包括:

利用压印设备,把在模具上形成的图案转印到基板上的树脂;和

使转印的图案显影,

其中所述压印设备包括:

保持机构,所述保持机构把基板保持在保持面上;和

变形机构,所述变形机构使在基板上形成图案处的基板侧图案区的形状变形;

摩擦力调整机构,所述摩擦力调整机构被包括在所述保持机构中并且调整作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的摩擦力;和

控制单元,所述控制单元控制所述变形机构或者所述摩擦力调整机构,以使得在沿着基板的表面的方向上作用于所述基板侧图案区上的变形力大于作用于与所述基板侧图案区对应的基板的背面和所述保持面之间的最大静摩擦力。

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