[发明专利]取向膜材料、取向膜及其制造方法、液晶显示装置有效
申请号: | 201210385329.5 | 申请日: | 2012-10-11 |
公开(公告)号: | CN102898833A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 唐广涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | C08L79/08 | 分类号: | C08L79/08;C08K9/04;C08K9/06;C08K3/36;C08J5/18;C09K19/56;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 取向 材料 及其 制造 方法 液晶 显示装置 | ||
1.一种取向膜材料,其特征在于,所述取向膜材料为包含表面改性的二氧化硅纳米粒子和聚酰亚胺的混合液,其中,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子相对于所述聚酰亚胺的质量百分比为0.01wt%~0.2wt%;
所述表面改性的二氧化硅纳米粒子为二氧化硅纳米粒子经过表面改性处理后获得,消除或减少了所述二氧化硅纳米粒子表面羟基的数量,并且所述表面改性的二氧化硅纳米粒子的表面上锚定有线性链,所述线性链的末端带有氨基。
2.根据权利要求1所述的取向膜材料,其特征在于,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子相对于所述聚酰亚胺的质量百分比为0.1wt%。
3.根据权利要求1所述的取向膜材料,其特征在于,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子中至少5%的粒子表面上锚定有末端带有氨基的所述线性链。
4.根据权利要求1-3任一项所述的取向膜材料,其特征在于,
所述表面改性的二氧化硅纳米粒子的粒径为10nm~200nm。
5.一种取向膜,其特征在于,由权利要求1-4任一项所述的取向膜材料涂覆于基板上经热处理制成,所述取向膜包括:聚酰亚胺,以及表面改性的二氧化硅纳米粒子与聚酰亚胺形成的化合物,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子表面锚定有线性链,所述线性链的末端带有氨基;
所述化合物包含,所述线性链的末端氨基与聚酰亚胺的羧酸基发生反应形成的、垂直基板取向的垂直取向链。
6.一种液晶显示装置,包括阵列基板、彩膜基板和设置于所述阵列基板与所述彩膜基板之间的液晶层,其特征在于,所述阵列基板和所述彩膜基板上设置有权利要求5所述的取向膜。
7.一种取向膜材料的制造方法,其特征在于,包括:
对二氧化硅纳米粒子进行表面改性处理,以消除或减少所述二氧化硅纳米粒子表面羟基的数量,在二氧化硅纳米粒子的表面上接枝末端带有氨基的线性链,获得表面改性的二氧化硅纳米粒子;
将表面改性的二氧化硅纳米粒子分散到聚酰亚胺溶液中,制成包含所述表面改性的二氧化硅纳米粒子和聚酰亚胺的混合液,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子相对于所述聚酰亚胺的质量百分比为0.01wt%~0.2wt%。
8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,
所述表面改性的二氧化硅纳米粒子相对于所述聚酰亚胺的质量百分比为0.1wt%。
9.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子中至少5%的粒子表面上锚定有末端带有氨基的线性链。
10.根据权利要求7-9任一项所述的方法,其特征在于,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子的粒径为10nm~200nm。
11.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述将表面改性的二氧化硅纳米粒子分散到聚酰亚胺溶液中,具体包括:
制备表面改性的二氧化硅纳米粒子的分散液,所述分散液的溶剂选自水、乙醇、异丙醇、丙二醇、醚醇、酮类、酯类中的一种物质或多种物质的混合物;
将所述表面改性的二氧化硅纳米粒子的分散液掺杂到聚酰亚胺溶液中。
12.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述对二氧化硅纳米粒子进行表面改性处理,具体为:
在二氧化硅纳米粒子表面接枝偶联剂,所述偶联剂选自硅烷偶联剂、钛酸酯类偶联剂、铝酸酯类偶联剂或锆铝酸酯偶联剂中的一种或多种。
13.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,所述对二氧化硅纳米粒子进行表面改性处理,具体为:
在二氧化硅纳米粒子表面接枝聚合物,所述聚合物选自聚苯乙烯、聚丁基丙烯酸酯、聚乙烯醋酸酯、聚乙烯丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、聚甲基丙烯酸酯中的一种或多种。
14.一种取向膜的制造方法,其特征在于,包括:
准备取向膜材料,所述取向膜材料为包含表面改性的二氧化硅纳米粒子和聚酰亚胺的混合液,所述表面改性的二氧化硅纳米粒子相对于所述聚酰亚胺的质量百分比为0.01wt%~0.2wt%;
将所述取向膜材料涂覆于基板上,形成取向层;
对涂覆有所述取向层的基板进行热处理,使所述取向层中表面改性的二氧化硅纳米粒子表面的线性链末端氨基与聚酰亚胺的羧酸基发生反应,形成垂直基板取向的垂直取向链。
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