[发明专利]一种光学基片镀膜前的清洗方法无效
| 申请号： | 201210387481.7 | 申请日： | 2012-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN103721969A | 公开（公告）日： | 2014-04-16 |
| 发明（设计）人： | 龚选香;李刚;孙龙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院大连化学物理研究所 |
| 主分类号： | B08B3/08 | 分类号： | B08B3/08 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利商标代理有限公司 21002 | 代理人： | 马驰 |
| 地址： | 116023 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 光学 镀膜 清洗 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种光学基片镀膜前的清洗方法，其特征在于：
采用正庚烷和乙醇的混合液作为光学基片清洗液，于光学基片镀膜前对光学基片进行擦拭清洗。
2.按照权利要求1所述的清洗方法，其特征在于：该光学基片清洗液主要由正庚烷和乙醇组成；清洗液中正庚烷体积含量为70%~90%，乙醇的体积含量为10%~30％。
3.按照权利要求1或2所述的清洗方法，其特征在于：该光学基片清洗液主要由正庚烷和乙醇组成；清洗液中正庚烷最佳体积含量为75-85%，乙醇最佳体积含量为15-25％。
4.按照权利要求1所述的清洗方法，其特征在于：
于光学基片的镀膜前，采用正庚烷和乙醇配成的混合清洗液，滴在光学清洗无尘布上对光学基片进行擦拭清洗。
5.按照权利要求1所述的清洗方法，其特征在于：光学基片为光学石英玻璃基片或单晶硅基片。
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