[发明专利]一种高纯镓容器的清洗方法有效
申请号: | 201210389613.X | 申请日: | 2012-10-15 |
公开(公告)号: | CN102873047B | 公开(公告)日: | 2017-04-12 |
发明(设计)人: | 康云飞;乔文;钟晓露 | 申请(专利权)人: | 南京隆润半导体材料有限公司 |
主分类号: | B08B3/04 | 分类号: | B08B3/04;B08B3/08;B08B3/10;B08B3/12 |
代理公司: | 北京彭丽芳知识产权代理有限公司11407 | 代理人: | 彭晓云 |
地址: | 211511 江苏省南京市化学工业园新*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高纯 容器 清洗 方法 | ||
1.一种高纯镓容器的清洗方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)将高纯水加热至60℃-80℃,浸泡容器15-25分钟,震荡容器,使得镓融化成为液态,并有部分液态镓从容器上脱离;
(2)将电子纯的强碱性的无机碱溶液加热至60℃-80℃,浸泡容器5-15分钟,同时震荡容器10-15分钟,使液态镓全部自动的脱离容器壁;
(3)用高纯水冲洗已经没有粘附镓的容器;
(4)用电子纯的强酸性的无机酸溶液浸泡步骤(3)已经冲洗好的容器0.5-2分钟;
(5)用高纯水再次冲洗容器;
(6)将容器干燥备用。
2.如权利要求1所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述高纯水的电阻率为18.0-18.3单位MΩ·cm。
3.如权利要求1所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述无机碱为氢氧化钠或氢氧化钾。
4.如权利要求3所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述无机碱溶液的OH根离子的浓度为1-2mol/L。
5.如权利要求1所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述无机酸溶液的为盐酸或硫酸。
6.如权利要求5所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述无机酸溶液的H+离子的浓度0.5-1mol/L。
7.如权利要求1所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述容器放在鼓风干燥箱内烘干备用。
8.如权利要求1所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述容器的震荡方式采用摇床震荡或采用超声波震荡。
9.如权利要求1所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述容器为塑料容器。
10.如权利要求9所述的高纯镓容器的清洗方法,其特征在于:所述塑料容器为聚乙烯、聚丙烯、四氟乙烯塑料容器。
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