[发明专利]对称等离子体处理室

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，包括：

盖组件和室体，其围成处理区域，所述处理区域位于上衬里的底壁和网衬上方，所述网衬耦合到所述上衬里的所述底壁；

衬底支撑组件，其设置在所述室体中；

排气组件，其在所述室体内限定抽真空区域，其中，所述室体包括围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称设置并将所述处理区域与所述抽真空区域流体连接的多个通道，其中所述衬底支撑组件包括下电极和设置在中心区域中的支撑基座，所述中心区域与所述处理区域和抽真空区域流体地密封，其中所述中心轴线是竖直轴线；以及

多个进出管，所述多个进出管贯穿所述室体的侧面而定位以对所述中心区域提供缆线行进，所述多个进出管从设置在所述支撑基座下方的所述室体水平地延伸，并且所述多个进出管布置成以轮辐图案围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地间隔开，其中多个抽真空通道中的每一个抽真空通道在多个抽真空通路中的对应的一个抽真空通路下方延伸，所述多个抽真空通路定位在所述上衬里的底壁中，其中所述多个抽真空通道中的每一个抽真空通道在所述多个进出管中的两个进出管之间延伸，并且其中每一个进出管在竖直方向上与所述处理区域间隔开。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，所述室体具有围绕所述支撑基座的中心轴线对称地贯穿形成的排气端口。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，所述盖组件包括：

上电极，其具有构造成将处理气体分配到所述处理区域中的中心歧管和构造成将处理气体分配到所述处理区域中的一个或者多个外部歧管；以及

环形歧管，其经由多个气体管耦合到所述一个或者多个外部歧管，所述气体管围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地布置。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，所述盖组件包括：

各具有导电配件的流体入口和流体出口；以及

多个导电塞，其中，所述导电配件和导电塞围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称布置。

5.根据权利要求1所述的设备，还包括：

真空管，其设置成贯穿所述进出管中的一者，并流体地耦合到设置在所述下电极内的一个或者多个升降销孔。

6.根据权利要求1所述的设备，还包括：

第一致动装置，其设置在所述中心区域内，并构造成将所述衬底支撑组件竖直移动一距离。

7.根据权利要求6所述的设备，其中，所述距离与所述进出管中的至少一者的开口的竖直长度相等。

8.根据权利要求1所述的设备，还包括：

第二致动装置，其设置在所述中心区域内，并构造成竖直移动设置在所述衬底支撑组件内的多个衬底支撑销。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述上衬里包围所述处理区域，并且其中，所述上衬里具有圆柱形壁，所述圆柱形壁具有多个槽，所述多个槽贯穿设置并围绕所述衬底支撑组件的中心轴线对称地布置。

10.根据权利要求9所述的设备，还包括耦合到所述圆柱形壁并覆盖所述多个槽中的至少一者的背衬。

11.根据权利要求9所述的设备，还包括网衬，其围绕所述衬底支撑组件环形地设置，并电耦合到所述上衬里。