[发明专利]微光电感单元及其背读式半导体光电倍增管及其组件有效
申请号: | 201210393939.X | 申请日: | 2012-10-17 |
公开(公告)号: | CN102956739A | 公开(公告)日: | 2013-03-06 |
发明(设计)人: | 钟焕昇;黄秋;彭旗宇;闫泽武 | 申请(专利权)人: | 黄秋 |
主分类号: | H01L31/107 | 分类号: | H01L31/107;H01L31/02;H01L27/144 |
代理公司: | 北京信慧永光知识产权代理有限责任公司 11290 | 代理人: | 田利琼 |
地址: | 200030 上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 微光 电感 单元 及其 背读式 半导体 光电倍增管 组件 | ||
1.微光电感单元,其特征在于,所述微光电感单元包括:
具有第一侧和第二侧的p-型半导体衬底,第一侧设置一凹槽,凹槽内填充有导电材料,所述第二侧掺杂有n-型离子;p-型半导体衬底的第二侧设置p-型外延层,p-型外延层包括:
靠近p-型半导体衬底并掺杂p-型离子的第一区域,和
设置在第一区域上的第二区域,第二区域的掺杂的p-型离子高于所述第一区域的掺杂水平。
2.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述凹槽为圆柱状。
3.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述凹槽具有宽高比为
4.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述凹槽口径为微米。
5.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述p-型半导体衬底选用单晶硅或砷化镓。
6.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述p-型外延层选用单晶硅或砷化镓。
7.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述导电材料是选自由n-型多晶硅或n-型多晶砷化镓。
8.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述导电材料为金属材料。
9.根据权利要求8所述的微光电感单元,其特征在于:所述微光电感单元还包括设置在凹槽的表面上,垂直于所述p型半导体衬底的第一侧的电绝缘层。
10.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述p-型半导体衬底厚度为20微米到600微米。
11.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述p-型外延层厚度为微米到5微米。
12.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述半导体光电倍增管还包括:设置在p型外延层的抗反射层。
13.根据权利要求1所述的微光电感单元,其特征在于:所述导电性材料与所述第二侧部之间的p型半导体衬底部分为0.2微米至10微米厚。
14.微光电感单元,其特征在于,所述微光电感单元包括:
具有第一侧和第二侧的n-型半导体衬底,第一侧设置一凹槽,凹槽内填充有导电材料,所述第二侧掺杂有p-型离子;n-型半导体衬底的第二侧设置n-型外延层,n-型外延层包括:
靠近n-型半导体衬底并掺杂n-型离子的第一区域,和
设置在第一区域上的第二区域,第二区域的掺杂的n-型离子高于所述第一区域的掺杂水平。
15.根据权利要求14所述的微光电感单元,其特征在于:所述n-型半导体衬底选用单晶硅或砷化镓。
16.根据权利要求14所述的微光电感单元,其特征在于:所述n-型外延层选用单晶硅或砷化镓。
17.根据权利要求14所述的微光电感单元,其特征在于:所述导电材料为金属材料;所述凹槽的表面上,垂直于所述n-型半导体衬底的第一侧的电绝缘层。
18.一种背读式半导体光电倍增管,其特征在于,所述导体光电倍增管包括如权利要求1-17任意项所述的微光电感单元,所述微光电感单元的p型半导体衬底或n-型半导体衬底的第一侧上的,设置有源和/或无源电子电路。
19.一种背读式半导体光电倍增管组件,其特征在于,所述导体光电倍增管包括若干个如权利要求18的背读式半导体光电倍增管,还包括设置的特定集成电路,所述特定集成电路连接所述背读式半导体光电倍增管p型或n-型半导体衬底的第一侧并与每个导电材料连接。
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