[发明专利]屏幕及其制造方法无效
申请号: | 201210394714.6 | 申请日: | 2012-10-17 |
公开(公告)号: | CN103105721A | 公开(公告)日: | 2013-05-15 |
发明(设计)人: | 青木和雄;北林雅志 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
主分类号: | G03B21/60 | 分类号: | G03B21/60;B32B3/30 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 陈海红;段承恩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 屏幕 及其 制造 方法 | ||
1.一种屏幕,其特征在于:
使投影光反射而在显示区域进行显示;
具备屏幕基体材料;
所述屏幕基体材料在屏幕坯料的一方的面形成凹面形状或凸面形状;
在对应于所述显示区域内的所述凹面形状或所述凸面形状的所述屏幕基体材料的任一个面,具备由形成于转印箔的金属反射层转印形成的金属反射膜。
2.根据权利要求1所述的屏幕,其特征在于:
在对应于所述凹面形状或所述凸面形状的未转印形成所述金属反射膜的部位形成反射降低膜。
3.根据权利要求1所述的屏幕,其特征在于:
在对应于所述凹面形状或所述凸面形状的所述金属反射膜上的一部分形成反射降低膜。
4.根据权利要求1~3中的任一项所述的屏幕,其特征在于:
在所述显示区域内的凸面形状的大致中心,转印形成所述金属反射膜。
5.根据权利要求1~4中的任一项所述的屏幕,其特征在于:
所述屏幕基体材料包括光不透射基体材料。
6.根据权利要求1所述的屏幕,其特征在于:
所述屏幕基体材料为光透射基体材料,在相对于所述显示区域内的所述凹面形状或凸面形状的中心的背面的位置,转印形成所述金属反射膜。
7.根据权利要求1~6中的任一项所述的屏幕,其特征在于:
对所述金属反射膜进行保护的保护膜与所述金属反射膜同时转印形成。
8.根据权利要求1~7中的任一项所述的屏幕,其特征在于:
所述金属反射膜为铝薄膜。
9.根据权利要求1~8中的任一项所述的屏幕,其特征在于:
所述屏幕坯料包括硬质氯乙烯树脂。
10.根据权利要求2所述的屏幕,其特征在于:
所述反射降低膜包括黑色树脂涂料的固态物。
11.一种屏幕的制造方法,其特征在于:
所述屏幕使投影光反射而在显示区域进行显示,
所述屏幕的制造方法包括以下工序:
反射膜转印工序,其在屏幕坯料的任一个面,通过转印箔至少转印形成金属反射膜;和
基体材料变形工序,其在所述屏幕坯料的任一个面,通过平面模具使凹面形状或凸面形状成型并形成屏幕基体材料。
12.根据权利要求11所述的屏幕的制造方法,其特征在于:
同时进行所述反射膜转印工序和所述基体材料变形工序。
13.根据权利要求11或12所述的屏幕的制造方法,其特征在于:
进一步具有在所述屏幕基体材料的任一个面形成反射降低膜的反射降低膜形成工序。
14.根据权利要求13所述的屏幕的制造方法,其特征在于:
同时进行所述反射膜转印工序、所述基体材料变形工序和所述反射降低膜形成工序。
15.根据权利要求11~14中任一项所述的屏幕的制造方法,其特征在于:
包括位置对齐工序,该位置对齐工序使所述平面模具与所述转印箔的位置对齐,以使得形成于对应于在所述基体材料变形工序中使用的所述平面模具的面上的至少2个以上的隅角的位置的位置标记与形成于对应于成为对所述金属反射膜进行转印的基体的所述转印箔上的至少2个以上的隅角的位置的位置标记相重叠。
16.根据权利要求11~15中任一项所述的屏幕的制造方法,其特征在于:
所述基体材料变形工序及所述反射膜转印工序包括加热压接工序。
17.根据权利要求13所述的屏幕的制造方法,其特征在于:包括反射降低剂的喷雾工序。
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