[发明专利]一种均匀涂布机

说明书

技术领域

 本发明涉及纺织品加工机械领域，特别地，是一种涂布均匀的涂布机。

背景技术

涂布机能够在成卷的基材，如：纸张、布匹、皮革、铝箔、塑料薄膜等，涂上一层特定功能的胶、涂料或油墨等，并烘干后收卷。普通涂布机是靠调节顺转辊涂布中由两根转动方向相同的涂布辊和刮刀之间的间隙来控制，在涂布辊上的形成的需要厚度的涂层。

采用刮刀的方式对涂层的厚度进行控制由于基材的弹性或者微观结构会使涂布效果较差，比如基材弹性过高，刮刀会使基材变形，使涂层的厚度不稳定，如果基材的微观结构比较疏松，刮刀会使涂料渗入基材，影响涂布效果。

发明内容

为了解决上述问题，本发明的目的在于提供一种均匀涂布机，该均匀涂布机能够均匀的对基材进行涂布。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：

该均匀涂布机包括输送基材的涂布辊，所述涂布辊输送的基材的上下方分别设置有连接正负电极的上基板和下基板，所述上基板上均布有涂料雾化机构，所述上基板和下基板之间还设置有涂层浓度监测器。

作为优选，所述涂布辊为导电金属材质，所述涂布辊接地。

作为优选，所述涂料雾化机构为超声波雾化器。

作为优选，所述涂层浓度监测器为设置在所述基材下方的电容感应器。

作为优选，所述涂层浓度监测器为设置在所述基材与所述上基板之间并平行于所述上基板的一对对射的光发射头和光接收头。

利用雾化的方式使涂料均匀雾化，利用一对基板形成电场，使雾化后的涂料带电颗粒形成一定质量后才能克服电场力降落至基材上，使基材上的涂层颗粒大小形状保持一致增强涂料均匀一致性，以上措施使涂料均匀的对基材进行涂布。

本发明的优点在于：不使用刮刀对基材进行涂布，使基材涂布时不受刮刀的影响。

附图说明

图1是本均匀涂布机实施例一的结构示意图；

图2是本均匀涂布机实施例二的结构示意图。

图中：10、20、雾化涂料；100、基材；210、220、涂布辊；310、下基板；320、上基板；350、涂料雾化机构；410、光发射头；420、光接收头；500、电容感应器。

具体实施方式

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明：

实施例一：

参阅图1，在本实施例中，该均匀涂布机包括输送基材100的涂布辊210、220，所述涂布辊210、220输送的基材100的上下方分别设置有连接正负电极的上基板320和下基板310，所述上基板320上均布有涂料雾化机构350，所述上基板320和下基板310之间还设置有涂层浓度监测器。

上述的均匀涂布机，所述涂布辊210、220为导电金属材质，所述涂布辊210、220接地，对涂布完成的基材进行消电处理，防止所述基材100发生静电。

上述的均匀涂布机，所述涂料雾化机构350为超声波雾化器，超声波雾化器具有效率高，雾化均匀的特点，有利于涂布的均匀。

上述的均匀涂布机，所述涂层浓度监测器为设置在所述基材下方的电容感应器500，使用电容感应器500对所述基材100上的带电涂层进行检测，同时根据实时数据控制所述所述涂料雾化机构350的雾化涂料速度，用于调整涂层的厚度。

实施例二：

参阅图2，仅将实施例一中的涂层浓度监测器变化为设置在所述基材100与所述上基板320之间并平行于所述上基板320的一对对射的光发射头410和光接收头420，可以使用光发射头410和光接收头420来检测雾化涂料的浓度，当雾化涂料的浓度较高时，所述光接收头420接收到的光必然较弱，当雾化涂料的浓度较低时，所述光接收头420接收到的光必然较强，同时根据实时数据控制所述所述涂料雾化机构350的雾化涂料速度，用于调整涂层的厚度。

参阅图1和图2，图示标号20及10分别为颗粒较大的雾化涂料和颗粒较小的雾化涂料，利用雾化的方式使涂料均匀雾化（即图示颗粒较小的雾化涂料10），利用一对基板形成电场，使雾化后的涂料带电颗粒形成一定质量后才能克服电场力降落至基材上（即颗粒较大的雾化涂料20），使基材上的涂层颗粒大小形状保持一致增强涂料均匀一致性，以上措施使涂料均匀的对基材100进行涂布。

以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。