[发明专利]抛光装置

权利要求书

1.一种用于抛光基片的缺口部分的抛光装置，其中，所述抛光装置包括：

水平地保持基片并转动基片的旋转保持机构；

使用抛光带抛光基片的多个抛光头模块；以及

使所述多个抛光头模块相互独立地移动的移动机构；

所述多个抛光头模块中的每个包括使抛光带与基片的缺口部分滑动接触的抛光头、以及将所述抛光带供给到所述抛光头并从所述抛光头收回抛光带的带供给与收回机构。

2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述移动机构包括沿相互垂直的X轴和Y轴移动所述多个抛光头模块的单个X轴移动机构和多个Y轴移动机构；

所述X轴移动机构被配置成沿所述X轴同时移动所述多个抛光头模块；

所述多个Y轴移动机构被配置成沿所述Y轴相互独立地移动所述多个抛光头模块。

3.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述移动机构使所述多个抛光头模块中的每个抛光头模块的所述抛光头沿单一移动轴朝向接近和远离所述基片的缺口部分的方向移动。

4.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述旋转保持机构包括使所述基片在与所述基片的表面平行的平面上进行以基片的缺口部分为中心的摆动运动的摆动机构。

5.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述旋转保持机构包括保持基片的保持台、以及竖直移动所述保持台的升降机构。

6.根据权利要求5所述的抛光装置，其特征在于，

所述升降机构被配置成使所述保持台从基片的转移位置降低到基片的抛光位置，并将所述保持台从所述抛光位置抬升至所述转移位置；

检测基片的缺口部分的缺口搜索单元设置在与所述转移位置相同高度。

7.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述多个抛光头模块中的至少一个包括测量抛光带的张力的张力传感器；

所述抛光装置还包括根据所述张力传感器的输出信号监测所述抛光带的张力的监测单元。

8.一种用于抛光基片的缺口部分的抛光装置，其特征在于，所述抛光装置包括：

水平地保持基片并转动基片的旋转保持机构；以及

使用抛光带抛光基片的抛光头模块；

其中，所述抛光头模块包括使抛光带与基片的缺口部分滑动接触的抛光头、将抛光带供给到所述抛光头并从所述抛光头收回所述抛光带的带供给与收回机构、以及测量抛光带的张力的张力传感器；

所述抛光装置还包括根据所述张力传感器的输出信号监测所述抛光带的张力的监测单元。