[发明专利]一种液态强力抛光剂无效
申请号: | 201210400229.5 | 申请日: | 2012-10-21 |
公开(公告)号: | CN103509469A | 公开(公告)日: | 2014-01-15 |
发明(设计)人: | 连新兰 | 申请(专利权)人: | 连新兰 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 450007 河南省*** | 国省代码: | 河南;41 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液态 强力 抛光 | ||
技术领域
本发明涉及研磨及抛光技术,特别涉及一种液态强力抛光剂。
背景技术
现有的抛光产品,固体的抛光强度大,但抛光效果不显著,不能使被抛光物达到高度的光滑效果,液态的抛光液抛光效果好,但速度较慢。而且,液态抛光液为了使金属表面更光泽,一般采用含有磷酸和硝酸的液体,伤害皮肤,造成环境污染。用带有油性的液体又会使被抛光的物件不易清洗,污渍多。
发明内容
为了克服上述各种抛光产品的缺陷,本发明提供一种不含销酸、磷酸,集研磨与抛光为一体的强力抛光液,被抛光物使用该抛光剂抛光后的光泽度更强,抛光速度快,负作用少,对人体无害。
为了实现上述目的,本发明采用的技术方案如下:
提供一种强力抛光液,按重量百分比计该抛光液含有:(1)MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂10-20%,(2)胺缩合物15-20%,(3)乙二胺四乙酸(EDTA)3-5%,(4)水42-62%,(5)碳化硅超细抛光粉10-30%。
其制做方法为:将(1)MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂加入到(4)水42-62%搅拌溶解后,加入(2)胺缩合物15-20%和(3)乙二胺四乙酸(EDTA)3-5%搅拌,静置5-10小时后,再加入(5)碳化硅超细抛光粉充分搅拌。
上述的技术方案中,所选用的碳化硅超细抛光粉,规格在3000#-6000#。
本发明的有益效果
1)在抛光过程中不易产生有害化合物;2)集物理抛光与化学抛光为一体;3)抛光速度快;4)产品用本发明的抛光剂抛光后的光泽度强,抛光效果好;5)容易清洗;6)制作方便,成本低。
具体实施方式
为了使本发明的特征和技术手段与达成的目的易于明白理解,现结合具体实施例进一步阐述本发明
实施例:制备1公斤强力抛光液
取MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂200克,胺缩合物150克,乙二胺四乙酸(EDTA)30克,水520克,碳化硅超细抛光粉100克。
用一容器,将MIRANOL C2M-SF浓缩表面活性剂加入到水中搅拌溶解后,再加入胺缩合物和乙二胺四乙酸搅拌,静置6小时后,再加入碳化硅超细抛光粉充分搅拌。然后分装进100克装的容器内密,贮藏在阴凉处,以备使用。
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