[发明专利]一种抗翘曲光学薄膜、其制备方法及使用该光学薄膜的显示器件

权利要求书

1.一种抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述光学薄膜包括透明基板，所述透明基板的一侧设置有上扩散涂层，另一侧设置有下扩散涂层；所述上扩散涂层包括上扩散胶层和上扩散粒子，上扩散粒子通过上扩散胶层粘结在透明基板的上表面；所述下扩散涂层包括下扩散胶层和下扩散粒子，下扩散粒子通过下扩散胶层粘结在透明基板的下表面；所述上扩散涂层的厚度为1-50um，所述下扩散涂层的厚度与上扩散涂层的厚度之差的绝对值≤3um。

2.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述上扩散胶层和下扩散胶层的材料相同，所述上扩散粒子和下扩散粒子的材料相同，下扩散粒子与上扩散粒子的重量比为1:1-1.5。

3.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述下扩散粒子的重量为上扩散粒子的0.01-0.5倍；所述上扩散涂层的厚度为1-50um，所述下扩散涂层的厚度比上扩散涂层的厚度厚1-2um。

4.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述透明基板的材料的折射率为1.4-1.75。

5.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述的扩散粒子为球形或椭球形，包括大粒子和小粒子，所述大粒子的粒径范围为10-50um，所述小粒子的粒径范围为0.1-10um。

6.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述的扩散粒子包括有机扩散粒子和无机扩散粒子。

7.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述扩散胶层材料为聚丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂中的一种或至少两种的组合。

8.根据权利要求1所述的抗翘曲光学薄膜，其特征在于，所述涂层中含有助剂。

9.一种根据权利要求1-8之一所述的抗翘曲光学薄膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：

（1）配制上扩散涂层涂布液：在搅拌桶内，依次加入胶水，粒子、助剂、溶剂，搅拌1-4小时，再加入固化剂，搅拌0.5-1小时；

（2）配制下扩散涂层涂布液：在搅拌桶内，依次加入胶水，粒子、助剂、溶剂，搅拌0.5-4小时，再加入固化剂，搅拌0.5-1小时；

（3）将步骤（1）制得的上扩散涂层涂布液涂布到透明基材的上表面上，在80-120℃，烘烤1-30分钟；

（4）将步骤（2）制得的下扩散涂层涂布液涂布到透明基材的下表面上，在80-120℃，烘烤1-30分钟。

10.一种显示器件，其特征在于，所述显示器件包括电源组件、液晶面板组件和至少一片权利要求1-8之一所述的抗翘曲光学薄膜。