[发明专利]薄片类介质纠偏机构及薄片类介质处理装置

权利要求书

1.一种薄片类介质纠偏机构，位于薄片类介质的输送通道内，所述输送通道的沿薄片类介质宽度方向的一侧面为基准面，其特征在于，所述纠偏机构包括电机(11)、在所述输送通道上沿输送方向间隔布置并且分别驱动与之接触的薄皮类介质向所述基准面移动的多个纠偏辊(341)、与所述电机(11)传动连接的多个摩擦传动组件，各所述摩擦传动组件一一对应地摩擦驱动各所述纠偏辊(341)，使得在薄片类介质与所述基准面接触时、靠近该接触位置的纠偏辊(341)与对应的摩擦传动组件之间传动打滑。

2.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述多个纠偏辊(341)同轴线地或轴线平行地设置，各所述纠偏辊(341)的轴线与所述基准面呈夹角设置。

3.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，各所述摩擦传动组件设置在与其对应配合的所述纠偏辊(341)的支撑轴(33)上，其中所述支撑轴(33)与所述电机(11)传动连接。

4.根据权利要求3所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，各所述摩擦传动组件包括与所述支撑轴(33)相连的摩擦件(342)和向贴近所述纠偏辊(341)的方向偏压所述摩擦件(342)的压簧(343)。

5.根据权利要求4所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述纠偏辊(341)上设有空腔，所述摩擦件(342)和压簧(343)位于所述空腔内。

6.根据权利要求1所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，还包括抬升所述纠偏辊(341)远离薄片类介质的抬升机构(35)。

7.根据权利要求6所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，所述抬升机构(35)包括与所述纠偏辊(341)的支撑轴(33)固定套接的凸轮，所述凸轮在所述支撑轴(33)转动一周的过程中抬升所述纠偏辊(341)一次。

8.根据权利要求3所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，还包括可转动的转板(31)和向所述转板(31)偏压的弹性元件(5)，所述支撑轴(33)枢接在所述转板(31)上并且远离所述转板(31)的转轴，在所述弹性元件(5)的作用下，各所述纠偏辊(341)具有按压在薄片类介质上的趋势。

9.根据权利要求8所述的薄片类介质纠偏机构，其特征在于，还包括支架，其中，所述转板(31)通过所述转轴枢接在所述支架上，所述电机(11)设置在所述支架上，所述电机(11)与在所述支架上设置的传动轴(21)传动连接，所述传动轴(21)与各所述支撑轴(33)之间传动连接。

10.一种薄片类介质处理装置，包括在输送通道上设置的输送辊组(91)、纠偏机构(100)和至少一处理机构(200)，其特征在于，所述纠偏机构(100)为根据权利要求1至9中任一项所述的薄片类介质纠偏机构。