[发明专利]多功能云纹干涉及制栅系统

权利要求书

1.一种多功能云纹干涉及制栅系统，包括：激光器（1）、分光耦合器（2）、干涉光路系统（3）、图像采集系统（4）、加载及六维调节装置（5）和带有观察窗的高温炉（36），其特征在于：所述的干涉光路系统（3）中含有制作2400line/mm的u场光栅和测量常温条件下的u场位移的光路、制作2400line/mm的v场光栅和测量常温条件下的v场位移的光路、制作1200line/mm的u场光栅和测量高温条件下的u场位移的光路、制作1200line/mm的v场光栅和测量高温条件下的v场位移的光路，其中，

所述制作2400line/mm的u场光栅和测量常温条件下的u场位移的光路依次通过分光耦合器（2）中的开关控制器（6）、第一光纤耦合器（7）后，经第一光纤分光器（9）分光，分两束分别进入干涉光路系统（3），一束依次经过u场第一反射镜（11）、u场第一准直透镜（13）、u场第一楔形反射镜（15）后入射到常温试件（28）表面，另一束依次经过u场第二反射镜（12）、u场第二准直透镜（14）、u场第二楔形反射镜（16）后入射到常温试件（28）表面；

所述制作2400line/mm的v场光栅和测量常温条件下的v场位移的光路依次通过分光耦合器（2）中的开关控制器（6）、第二光纤耦合器（8）后，经第二光纤分光器（10）分光，分两束分别进入干涉光路系统（3），一束依次经过v场第一反射镜（19）、v场第一准直透镜（21）、v场第一楔形反射镜（23）后入射到常温试件（28）表面，另一束依次经过v场第二反射镜（20）、v场第二准直透镜（22）、v场第二楔形反射镜（24）后入射到常温试件（28）表面；

所述制作1200line/mm的u场光栅和测量高温条件下的u场位移的光路依次通过分光耦合器（2）中的开关控制器（6）、第一光纤耦合器（7）后，经第一光纤分光器（9）分光，分两束分别进入干涉光路系统（3），一束依次经过u场第一反射镜（11）、u场第一准直透镜（13）、u场高温第一楔形反射镜（30）后入射到高温试件（35）表面，另一束依次经过u场第二反射镜（12）、u场第二准直透镜（14）、u场高温第二楔形反射镜（31）后入射到高温试件（35）表面，其中测量高温条件下的u场位移的光路要通过带有观察窗的高温炉（36）；

所述制作1200line/mm的v场光栅和测量高温条件下的v场位移的光路依次通过分光耦合器（2）中的开关控制器（6）、第二光纤耦合器（8）后，经第二光纤分光器（10）分光，分两束分别进入干涉光路系统（3），一束依次经过v场第一反射镜（19）、v场第一准直透镜（21）、v场高温第一楔形反射镜（32）后入射到高温试件（35）表面，另一束依次经过v场第二反射镜（20）、v场第二准直透镜（22）、v场高温第二楔形反射镜（33）后入射到高温试件（35）表面，其中测量高温条件下的v场位移的光路要通过带有观察窗的高温炉（36）；

所述制作2400line/mm的u场光栅和测量常温条件下的u场位移的光路、制作2400line/mm的v场光栅和测量常温条件下的v场位移的光路在常温试件（28）表面发生干涉形成干涉图像，经常温场镜（27）被图像采集系统（4）采集。制作1200line/mm的u场光栅和测量高温条件下的u场位移的光路、制作1200line/mm的v场光栅和测量高温条件下的v场位移的光路在高温试件（35）表面发生干涉形成干涉图像，经高温场镜（29）被图像采集系统（4）采集。

2.如权利要求1所述的多功能云纹干涉及制栅系统，其特征在于：所述分光耦合器（2）中的开关控制器（6）、第一光纤耦合器（7）、第二光纤耦合器（8）被封装在暗盒中。

3.如权利要求1所述的多功能云纹干涉及制栅系统，其特征在于：所述的干涉光路系统（3）中的u场第一反射镜（11）、u场第二反射镜（12）、u场第一准直透镜（13）、u场第二准直透镜（14）、u场第一楔形反射镜（15）、u场第二楔形反射镜（16）、u场第一调整座（17）、u场第二调整座（18）、u场高温第一楔形反射镜（30）、u场高温第二楔形反射镜（31）布置在yz平面内，v场第一反射镜（19）、v场第二反射镜（20）、v场第一准直透镜（21）、v场第二准直透镜（22）、v场第一楔形反射镜（23）后、v场第二楔形反射镜（24）、v场第一调整座（25）、v场第二调整座（26）、v场高温第一楔形反射镜（32）后、v场高温第二楔形反射镜（33）布置在xy平面内，常温场镜（27）、高温场镜（29）布置在xz平面内，上述部件被封装在暗箱中。