[发明专利]用于原位手术应用的测量学系统中的点大小光照无效
申请号: | 201210414980.0 | 申请日: | 2012-10-25 |
公开(公告)号: | CN103120584A | 公开(公告)日: | 2013-05-29 |
发明(设计)人: | 阿列克谢·沙罗诺夫 | 申请(专利权)人: | 柯惠LP公司 |
主分类号: | A61B5/107 | 分类号: | A61B5/107 |
代理公司: | 北京金信立方知识产权代理有限公司 11225 | 代理人: | 黄威;王涛 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 原位 手术 应用 测量学 系统 中的 大小 光照 | ||
1.一种测量学方法,其包括以下步骤:
在离目标部位已知距离处定位点光源投射器;
通过半透明的掩模投射光束,其中,所述光束从点分散并且所述半透明的掩模具有已知尺寸的掩模图案;
由所述光束在所述目标部位上形成放大图案,其中,所述放大图案是由所述掩模图案以放大系数放大而成;
目测放大图案的在所述目标部位上形成的部分;并且
基于所述掩模图案的已知尺寸、所述放大系数和所述放大图案的在所述目标部位上形成的部分来确定目标部位的测量值。
2.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述光束为由设置在所述点光源投射器内的激光二极管发射的激光。
3.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述光束由设置在所述点光源投射器内的LED发射。
4.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述光束通过设置在所述点光源投射器内的透镜聚焦为点。
5.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述半透明的掩模能够平移以调整所述放大系数。
6.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述半透明的掩模设置在所述点光源投射器内。
7.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述点光源投射器连接至用于目测所述目标部位的内窥镜。
8.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述掩模图案包括一系列均匀间隔的同心圆。
9.根据权利要求1所述的测量学方法,其中,所述掩模图案包括一系列均匀间隔的线性标记。
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