[发明专利]基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统有效
申请号: | 201210417650.7 | 申请日: | 2012-10-26 |
公开(公告)号: | CN102937512A | 公开(公告)日: | 2013-02-20 |
发明(设计)人: | 宁禹;许晓军;张烜喆;杨轶;习锋杰;齐恩宇;陆启生;刘泽金 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军国防科学技术大学 |
主分类号: | G01M11/02 | 分类号: | G01M11/02 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所 43008 | 代理人: | 赵洪;周长清 |
地址: | 410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47*** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 双哈特曼 探测器 分光镜 测量 系统 | ||
1.一种基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统,其特征在于:它包括第一哈特曼探测器(1)、第二哈特曼探测器(2)、高能激光器(3)、离轴聚焦反射镜(5)、功率计(6)、同步控制器(7)和计算机(8),所述第一哈特曼探测器(1)和第二哈特曼探测器(2)呈对称状布置于待测分光镜(4)的两侧,所述高能激光器(3)发出的高功率激光入射至待测分光镜(4)前表面后,一部分光能量被待测分光镜(4)反射至离轴聚焦反射镜(5),然后被功率计(6)接收;所述同步控制器(7)发出同步触发信号控制高能激光器(3)开启、第一哈特曼探测器(1)和第二哈特曼探测器(2)进行采集;所述第一哈特曼探测器(1)和第二哈特曼探测器(2)测得的子孔径偏移量数据被实时传送给计算机(8),通过所述计算机(8)分析得到待测分光镜(4)的反射像差和透射像差随高能激光功率和辐照时间的变化特性。
2.根据权利要求1所述的基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统,其特征在于:所述高能激光器(3)发出的高功率激光以25°角入射至待测分光镜(4)的前表面。
3.根据权利要求1所述的基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统,其特征在于,所述第一哈特曼探测器(1)的标定流程为:所述第一哈特曼探测器(1)利用内部配备的激光器发出与接收系统共光路的准直探测光束,将一标准平面反射镜(9)放置于第一哈特曼探测器(1)的前方,调整标准平面反射镜(9)的角度和位置,使探测光束经标准平面反射镜(9)反射后被第一哈特曼探测器(1)自身接收;调整探测光的强度和第一哈特曼探测器(1)内部的可调节中性滤光片,使第一哈特曼探测器(1)各子孔径内光斑均可见且曝光适度,运行标定程序确定哈特曼测量零点。
4.根据权利要求3所述的基于双哈特曼探测器的分光镜像差测量系统,其特征在于,所述第二哈特曼探测器(2)的标定流程为:将所述第一哈特曼探测器(1)发出的准直探测光束作为标定光,所述第二哈特曼探测器(2)采用接收外部信号光方式工作,通过粗精对准功能调整自身光瞳及光轴位置,使第一哈特曼探测器(1)的探测光束进入第二哈特曼探测器(2)的各子孔径视场,并调节光强衰减使光斑曝光适度,运行标定程序确定第二哈特曼探测器(2)的测量零点。
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