[发明专利]有机EL器件制造装置

说明书

技术领域

本发明涉及有机EL器件制造装置，特别是涉及能够在成膜时等高精度地控制基板与掩模的间隙的有机EL器件制造装置。

背景技术

作为制造有机EL器件的有效方法有真空蒸镀法。真空蒸镀法是在真空处理室内，例如在使玻璃基板等基板与掩模重合的状态下，将它们暴露于处理气体中实施蒸镀处理的方法。另外，近年来，随着处理基板的大型化，G6代的基板尺寸已达到1500mm×1800mm。为了与这种大型基板相对应，在垂直地保持基板面的状态下将其暴露于处理气体中实施蒸镀处理。在下述的专利文献1中公开了如下技术，即、在垂直地保持基板面的状态下，使掩模靠近基板，并在使基板与掩模重合的状态下，实施蒸镀处理。

如上所述，在真空处理室内垂直地保持大型基板的基板面，在重合了掩模的状态下实施蒸镀处理的场合，为了降低蒸镀的模糊，进行高精度的蒸镀，需要高精度地控制基板与掩模的间隙，例如使其达到数十μm以下。一直以来，虽然将放置基板的基板座表面的平坦度机械加工到例如约20μm以下，并提高使基板座移动的移动引导机构的机械加工精度，从而控制基板与掩模的间隙，尤其是在使大型基板为垂直的情况下，不容易在整个基板面的范围内高精度地控制基板与掩模的间隙。

现有技术文献

专利文献1：日本特开2010－086956号公报

发明内容

本发明的目的在于提供一种能够将基板与掩模的间隙控制在例如数十μm以下的高精度的有机EL器件制造装置。

为了实现上述目的，在本发明的有机EL器件制造装置中，具有：

荫罩，该荫罩设置在真空处理室内；

基板座，该基板座设置在真空处理室内，包含用于放置基板的基板放置区域的第一面为长方形；

基板密合机构，该基板密合机构使放置在上述基板座上的基板与上述荫罩之间接近或分离；以及

距离计测机构，该距离计测机构在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，

上述有机EL器件制造装置的特征在于，

上述距离计测机构具有：

距离计测用空间，该距离计测用空间在上述基板座上设置于基板放置区域外的四角，并设置成贯通上述基板座的第一面和与该第一面相反一侧的第二面；

透明玻璃板，该透明玻璃板在上述距离计测用空间中设置于上述基板座的第一面上；以及

距离计测部，该距离计测部在上述距离计测用空间中配置于上述基板座的第二面上，

上述距离计测部具有：

对对象物发射光并接收从该对象物反射来的反射光，以计测与上述对象物之间的距离的距离计；

使上述距离计与真空处理室内的气氛隔离的距离计箱体；以及

设置在上述距离计箱体的一部分上的透明玻璃窗，

上述距离计接收通过上述透明玻璃窗从上述透明玻璃板反射来的反射光、以及通过上述透明玻璃窗从上述荫罩反射来的反射光，并根据该接收光的结果来计测上述透明玻璃板与上述荫罩之间的距离。

本发明的效果如下。

根据本发明，能够提供可将基板与掩模的间隙控制在例如数十μm以下的高精度的有机EL器件制造装置。

附图说明

图1是表示本发明的实施方式的有机EL器件制造装置的图。

图2是表示本发明的实施方式的搬运腔及处理腔的结构概要的图。

图3是本发明的实施方式的搬运腔及处理腔的构成模式图。

图4是表示本发明的实施方式的动作流程的图。

图5是表示本发明的实施方式的基板旋转机构及基板密合机构的图。

图6是表示本发明的实施方式的基板座的结构及定位时的基板的姿势的图。

图7是表示本发明的实施方式的定位部的结构的图。

图8是表示本发明的实施方式的距离测量机构的图。

图9是表示本发明的实施方式的基板掩模固定装置的实施例的图，是在图5中加上上述实施例的图。

图中：